| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-44页 |
| 1.1 金属二硫纶化合物的种类及结构特点 | 第9-13页 |
| 1.1.1 金属二硫纶均配配合物 | 第9-11页 |
| 1.1.2 金属二硫纶混配配合物 | 第11-13页 |
| 1.2 金属二硫纶化合物的应用进展 | 第13-29页 |
| 1.2.1 金属二硫纶化合物在电导性材料领域的研究进展 | 第13-17页 |
| 1.2.2 金属二硫纶化合物在光电材料领域的研究进展 | 第17-20页 |
| 1.2.3 金属二硫纶化合物在光热材料领域的研究进展 | 第20-23页 |
| 1.2.4 金属二硫纶化合物在磁性材料领域的研究进展 | 第23-26页 |
| 1.2.5 金属二硫纶化合物在催化领域方面的研究进展 | 第26-29页 |
| 1.3 四硫富瓦烯-MV类光电转化材料 | 第29-34页 |
| 1.4 本课题研究的内容及意义 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-44页 |
| 第二章 基于与吡啶基团直接相连的金属镍二硫纶化合物膜及其光响应研究 | 第44-69页 |
| 2.1 前言 | 第44-45页 |
| 2.2 实验部分 | 第45-49页 |
| 2.2.1 试剂及仪器 | 第45页 |
| 2.2.2 吡啶镍二硫纶化合物的合成 | 第45-49页 |
| 2.2.3 化合物1的膜以及电极的制备 | 第49页 |
| 2.2.4 光电流的测定 | 第49页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第49-64页 |
| 2.3.1 制备与表征 | 第49-52页 |
| 2.3.2 [Ni(4-pedt)_2]-膜的形貌研究 | 第52-57页 |
| 2.3.3 光电流响应性质研究 | 第57-61页 |
| 2.3.4 光电流响应的机理解释 | 第61-64页 |
| 2.4 小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 第三章 吡啶烷基化金属镍二硫纶化合物的合成及性质研究 | 第69-86页 |
| 3.1 前言 | 第69-70页 |
| 3.2 实验部分 | 第70-75页 |
| 3.2.1 试剂及仪器 | 第70页 |
| 3.2.2 吡啶烷基化镍二硫纶化合物的合成 | 第70-74页 |
| 3.2.3 化合物 1-6 电极的制备 | 第74页 |
| 3.2.4 电化学的测定 | 第74页 |
| 3.2.5 光电流的测定 | 第74-75页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第75-83页 |
| 3.3.1 光谱性质 | 第75-76页 |
| 3.3.2 化合物[Ni(4-pedt)_2(C_nH_2n+1)_2]Br(I)形貌的研究 | 第76-77页 |
| 3.3.3 氧化还原性质 | 第77-79页 |
| 3.3.4 烷基化二硫纶化合物修饰的膜电极光电流响应 | 第79-83页 |
| 3.4 小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 第四章 全文总结 | 第86-87页 |
| 4.1 本论文的总结 | 第86页 |
| 4.2 对未来工作的设想 | 第86-87页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
