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二氧化硅基多级孔材料的设计合成及催化氧化性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第16-35页
    1.1 研究目的和意义第16-17页
    1.2 多级孔二氧化硅材料的结构概述第17-26页
        1.2.1 微孔-介孔复合材料第17-21页
        1.2.2 微孔-大孔复合材料第21-22页
        1.2.3 介孔-大孔复合材料第22-24页
        1.2.4 微孔-介孔-大孔复合材料第24-25页
        1.2.5 其它多级孔材料第25-26页
    1.3 多级孔二氧化硅材料的功能化第26-30页
        1.3.1 金属掺杂第26-27页
        1.3.2 负载金属氧化物第27-28页
        1.3.3 有机官能团修饰第28-29页
        1.3.4 负载贵金属第29-30页
    1.4 多级孔二氧化硅材料在催化氧化中的应用第30-34页
        1.4.1 催化氧化反应简介第30-31页
        1.4.2 多级孔铁硅催化材料第31-32页
        1.4.3 多级孔钛硅催化材料第32-34页
    1.5 本文的主要研究内容第34-35页
第2章 实验材料与实验方法第35-46页
    2.1 实验试剂与实验设备第35-37页
        2.1.1 实验试剂第35-36页
        2.1.2 实验设备第36-37页
    2.2 实验方法第37-42页
        2.2.1 前躯体及功能纳米粒子的制备第37页
        2.2.2 多级孔MOS-NH_2/Fe的制备第37-38页
        2.2.3 多级孔Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2内米反应器的制备第38-39页
        2.2.4 微孔-介孔-大孔球型多级孔钛硅分子筛(HPB-TS-1)的制备第39-40页
        2.2.5 中空γ-Fe_2O_3/TS-1复合微球的制备第40-41页
        2.2.6 催化反应活性评价第41-42页
    2.3 样品的物理性能表征第42-46页
        2.3.1 X射线粉末衍射(XRD)分析第42页
        2.3.2 场发射扫描电子显微镜(SEM)分析第42-43页
        2.3.3 透射扫描电子显微镜(TEM)分析第43页
        2.3.4 傅里叶红外光谱(FT-IR)分析第43-44页
        2.3.5 紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)分析第44页
        2.3.6 拉曼光谱(Raman)分析第44页
        2.3.7 X射线光电子能谱(XPS)分析第44页
        2.3.8 比表面积(BET)测试第44-45页
        2.3.9 振动样品磁强计(VSM)测试第45页
        2.3.10 电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)测试第45页
        2.3.11 核磁共振光谱(NMR)测试第45页
        2.3.12 差热-热重(TGA-DSC)分析第45-46页
第3章 微孔-介孔MOS-NH_2/Fe的制备及催化性能研究第46-67页
    3.1 引言第46-47页
    3.2 NHQ-Si的结构表征第47-49页
        3.2.1 傅里叶红外光谱第47-48页
        3.2.2 核磁共振谱第48-49页
    3.3 NH_2-Si对介孔有序性的影响第49-52页
        3.3.1 NH_2-Si前驱体的结构对介孔有序性的影响第49-50页
        3.3.2 NHQ-Si的用量对介孔有序性的影响第50-51页
        3.3.3 DMSO处理对MOS-NHQ孔结构的影响第51-52页
    3.4 MOS-NH_2/Fe的表征第52-63页
        3.4.1 MOS-NH_2/Fe的傅里叶红外光谱第53-54页
        3.4.2 MOS-NH_2/Fe的核磁共振谱第54-55页
        3.4.3 MOS-NH_2/Fe的紫外可见光谱第55-56页
        3.4.4 MOS-NH_2/Fe的氮气吸附脱附等温线第56-59页
        3.4.5 MOS-NH_2/Fe的扫描电子显微镜第59-61页
        3.4.6 MOS-NH_2/Fe的透射电子显微镜第61页
        3.4.7 MOS-NH_2/Fe的小角X射线衍射光谱第61-63页
    3.5 MOS-NH_2/Fe的形成机制第63-64页
    3.6 MOS-NH_2/Fe的催化性能第64-65页
    3.7 本章小结第65-67页
第4章 双介孔Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的制备及催化氧化性能研究第67-89页
    4.1 引言第67-68页
    4.2 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的结构表征第68-79页
        4.2.1 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的傅里叶红外光谱第68-69页
        4.2.2 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的扫描电子显微镜图像第69-70页
        4.2.3 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的透射电子显微镜图像第70-72页
        4.2.4 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的X射线衍射光谱第72-74页
        4.2.5 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的X射线光电子能谱第74-75页
        4.2.6 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的拉曼光谱第75-76页
        4.2.7 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的氮气吸附等温线第76-78页
        4.2.8 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的磁性能分析第78-79页
    4.3 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的形成机制第79-80页
    4.4 Multi-nFe_2O_3@Meso-SiO_2的催化性能研究第80-87页
        4.4.1 苯酚羟基化第80-81页
        4.4.2 甲基蓝的完全氧化降解第81-87页
    4.5 本章小结第87-89页
第5章 微孔-介孔-大孔HPB-TS-1的制备及催化性能研究第89-115页
    5.1 引言第89-90页
    5.2 HPB-TS-1制备工艺参数的优化第90-102页
        5.2.1 IRA-900的用量第90-92页
        5.2.2 温度的影响第92-95页
        5.2.3 TPAOH的影响第95-97页
        5.2.4 过氧化氢的影响第97-99页
        5.2.5 酸处理的影响第99-102页
    5.3 HPB-TS-1的结构研究第102-107页
        5.3.1 形貌分析第102-105页
        5.3.2 结构分析第105-107页
    5.4 HPB-TS-1的形成机制第107-108页
    5.5 HPB-TS-1的催化氧化性能研究第108-113页
        5.5.1 苯酚羟基化第108-111页
        5.5.2 烯烃环氧化第111-113页
    5.6 本章小结第113-115页
第6章 微孔-介孔-大孔空心Fe_2O_3/TS-1的制备及催化性能研究第115-136页
    6.1 引言第115-116页
    6.2 中空Fe_2O_3/TS-1纳米反应器的的结构表征第116-127页
        6.2.1 中空Fe_2O_3/TS-1的电子显微镜图像第117-120页
        6.2.2 中空Fe_2O_3/TS-1的X射线衍射光谱第120-122页
        6.2.3 中空Fe_2O_3/TS-1的氮气吸附脱附等温线第122-123页
        6.2.4 Fe_3O_4纳米颗粒的热重-差热分析第123-124页
        6.2.5 中空Fe_2O_3/TS-1的X射线光电子能谱第124-125页
        6.2.6 中空Fe_2O_3/TS-1的紫外可见光谱第125-126页
        6.2.7 中空Fe_2O_3/TS-1的磁性能测试第126-127页
    6.3 多级孔空心Fe_2O_3/TS-1微球的组装过程第127-130页
    6.4 中空Fe_2O_3/TS-1纳米反应器的催化氧化性能第130-134页
        6.4.1 γ-Fe_2O_3/TS-1复合微球催化苯酚羟基化反应第130-131页
        6.4.2 γ-Fe_2O_3/TS-1复合微球对苯酚的完全氧化降解能力第131-132页
        6.4.3 γ-Fe_2O_3/TS-1复合微球的稳定性研究第132-133页
        6.4.4 γ-Fe_2O_3/TS-1复合微球对苯酚的降解机理研究第133-134页
    6.5 本章小结第134-136页
结论第136-137页
创新点第137页
展望第137-138页
参考文献第138-157页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第157-159页
致谢第159-160页
个人简历第160页

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