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GaN多量子阱悬空波导探测器的设计与表征

摘要第4-5页
abstract第5页
缩写列表第8-9页
第一章 绪论第9-16页
    1.1 研究背景及意义第9-10页
    1.2 光电探测器原理第10页
    1.3 光电探测器分类第10-14页
        1.3.1 p-n结光电探测器第11页
        1.3.2 p-i-n结光电探测器第11-12页
        1.3.3 肖特基势垒光电探测器第12-13页
        1.3.4 MSM光电探测器第13页
        1.3.5 MIS光电探测器第13-14页
    1.4 论文主要工作及章节安排第14-16页
第二章 波导探测器研究进展第16-28页
    2.1 光电探测器主要特性参数第17-20页
        2.1.1 暗电流与伏安特性第17页
        2.1.2 光谱响应度特性第17-18页
        2.1.3 C-V特性第18-19页
        2.1.4 响应时间特性第19-20页
    2.2 Ge-on-Si波导探测器第20-23页
        2.2.1 p-i-n结型Ge-on-Si波导探测器第21-22页
        2.2.2 雪崩型Ge-on-Si波导探测器第22-23页
    2.3 III-V族波导探测器第23-27页
        2.3.1 p-i-n型InGaAs /InP波导探测器第23-24页
        2.3.2 MSM型InGaAs波导探测器第24-26页
        2.3.3 GaN多量子阱波导探测器第26-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第三章 波导探测器的设计仿真第28-35页
    3.1 波导基础理论第28-30页
    3.2 仿真方法第30-32页
        3.2.1 光束传播法第30页
        3.2.2 时域有限差分法第30-32页
    3.3 GaN多量子阱悬空波导探测器设计第32-34页
        3.3.1 GaN外延生长及衬底材料选择第32-33页
        3.3.2 悬空GaN波导结构设计及仿真第33-34页
        3.3.3 器件结构设计第34页
    3.4 本章小结第34-35页
第四章 波导探测器制备及结构表征第35-44页
    4.1 工艺及相关设备研究第35-40页
        4.1.1 紫外光刻工艺第35-37页
        4.1.2 刻蚀工艺第37-39页
        4.1.3 电子束蒸镀工艺第39页
        4.1.4 引线工艺第39-40页
    4.2 器件制备流程第40-42页
    4.3 器件物理结构表征第42-43页
    4.4 本章小结第43-44页
第五章 波导探测器特性参数测量及结果分析第44-51页
    5.1 波导探测器特性参数测试方案第44-46页
        5.1.1 器件特性参数测量系统第44-45页
        5.1.2 测量位置标定第45-46页
    5.2 器件测试及结果分析第46-50页
        5.2.1 暗电流及I-V特性测试第46-47页
        5.2.2 光谱响应度特性及反射光谱测试第47-48页
        5.2.3 C-V特性测试第48-49页
        5.2.4 响应时间特性测试第49-50页
    5.3 本章小结第50-51页
第六章 总结与展望第51-53页
    6.1 论文工作总结第51-52页
    6.2 未来工作展望第52-53页
参考文献第53-57页
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文第57-58页
附录2 攻读硕士学位期间申请的专利第58-59页
附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目第59-60页
致谢第60页

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