中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 课题的目的与意义 | 第8页 |
1.2 稳弧搅拌控制的国内外发展现状 | 第8-10页 |
1.2.1 国外发展现状 | 第9-10页 |
1.2.2 国内发展现状 | 第10页 |
1.3 课题来源 | 第10-11页 |
1.4 论文主要内容与结构 | 第11-12页 |
第二章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌工艺及控制要求 | 第12-17页 |
2.1 真空自耗电弧炉熔炼原理与组成 | 第12-13页 |
2.1.1 熔炼原理 | 第12页 |
2.1.2 真空自耗电弧炉组成 | 第12-13页 |
2.2 稳弧搅拌控制系统组成与工艺分析 | 第13-15页 |
2.2.1 控制系统组成与特点 | 第13-14页 |
2.2.2 控制系统熔炼工艺 | 第14-15页 |
2.3 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制需求 | 第15-16页 |
2.3.1 系统控制需求 | 第15-16页 |
2.3.2 系统功能需求 | 第16页 |
2.4 本章小结 | 第16-17页 |
第三章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制策略研究 | 第17-34页 |
3.1 稳弧搅拌外加纵向磁场分析 | 第17-22页 |
3.1.1 熔炼电弧分析 | 第17页 |
3.1.2 稳弧搅拌磁场分析 | 第17-20页 |
3.1.3 温度场分析 | 第20-22页 |
3.2 稳弧搅拌控制模型分析与建立 | 第22-26页 |
3.2.1 铸锭与稳弧搅拌参数关联模型分析 | 第22-23页 |
3.2.2 稳弧搅拌控制模型分析 | 第23-26页 |
3.3 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制策略 | 第26-33页 |
3.3.1 常规PID控制 | 第26-27页 |
3.3.2 模糊控制理论 | 第27-28页 |
3.3.3 真空自耗电弧炉稳弧搅拌Fuzzy-PID控制 | 第28-33页 |
3.4 本章小结 | 第33-34页 |
第四章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制系统硬件设计 | 第34-44页 |
4.1 现场总线 | 第34-37页 |
4.1.1 现场总线结构 | 第34页 |
4.1.2 Profibus现场总线 | 第34-36页 |
4.1.3 工业以太网 | 第36页 |
4.1.4 RS485 总线 | 第36-37页 |
4.2 基于多总线的稳弧搅拌控制硬件构成 | 第37-42页 |
4.2.1 系统整体方案 | 第37页 |
4.2.2 控制系统硬件构成 | 第37-38页 |
4.2.3 系统硬件配置选型 | 第38-42页 |
4.3 控制系统I/O点 | 第42-43页 |
4.4 本章小结 | 第43-44页 |
第五章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制系统软件设计 | 第44-60页 |
5.1 稳弧搅拌控制系统软件架构 | 第44页 |
5.2 人机界面设计 | 第44-49页 |
5.2.1 登陆界面 | 第45-46页 |
5.2.2 系统工况图 | 第46-47页 |
5.2.3 稳弧搅拌参数设定界面 | 第47-48页 |
5.2.4 曲线显示界面 | 第48页 |
5.2.5 报警界面 | 第48-49页 |
5.3 数据采集与控制 | 第49-50页 |
5.4 稳弧搅拌参数的关联关系实现 | 第50-54页 |
5.4.1 SQL SEVER | 第50-51页 |
5.4.2 组态王中电流关联选择的SQL实现 | 第51-54页 |
5.5 稳弧搅拌控制算法实现 | 第54-58页 |
5.5.1 OPC技术 | 第54-55页 |
5.5.2 组态王中控制算法的OPC实现 | 第55-57页 |
5.5.3 基于OPC的数据交换程序设计 | 第57页 |
5.5.4 稳弧搅拌控制程序设计 | 第57-58页 |
5.5.5 Fuzzy-PID算法程序设计 | 第58页 |
5.6 本章小结 | 第58-60页 |
第六章 系统调试与运行 | 第60-65页 |
6.1 调试阶段 | 第60页 |
6.2 硬件调试 | 第60-61页 |
6.3 软件调试 | 第61页 |
6.4 试运行及结果分析 | 第61-64页 |
6.4.1 系统试运行 | 第61-63页 |
6.4.2 运行结果分析 | 第63-64页 |
6.5 本章小结 | 第64-65页 |
第七章 结论 | 第65-67页 |
7.1 结论 | 第65页 |
7.2 创新点 | 第65页 |
7.3 展望 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-71页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |