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真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制系统研究

中文摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章 绪论第8-12页
    1.1 课题的目的与意义第8页
    1.2 稳弧搅拌控制的国内外发展现状第8-10页
        1.2.1 国外发展现状第9-10页
        1.2.2 国内发展现状第10页
    1.3 课题来源第10-11页
    1.4 论文主要内容与结构第11-12页
第二章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌工艺及控制要求第12-17页
    2.1 真空自耗电弧炉熔炼原理与组成第12-13页
        2.1.1 熔炼原理第12页
        2.1.2 真空自耗电弧炉组成第12-13页
    2.2 稳弧搅拌控制系统组成与工艺分析第13-15页
        2.2.1 控制系统组成与特点第13-14页
        2.2.2 控制系统熔炼工艺第14-15页
    2.3 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制需求第15-16页
        2.3.1 系统控制需求第15-16页
        2.3.2 系统功能需求第16页
    2.4 本章小结第16-17页
第三章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制策略研究第17-34页
    3.1 稳弧搅拌外加纵向磁场分析第17-22页
        3.1.1 熔炼电弧分析第17页
        3.1.2 稳弧搅拌磁场分析第17-20页
        3.1.3 温度场分析第20-22页
    3.2 稳弧搅拌控制模型分析与建立第22-26页
        3.2.1 铸锭与稳弧搅拌参数关联模型分析第22-23页
        3.2.2 稳弧搅拌控制模型分析第23-26页
    3.3 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制策略第26-33页
        3.3.1 常规PID控制第26-27页
        3.3.2 模糊控制理论第27-28页
        3.3.3 真空自耗电弧炉稳弧搅拌Fuzzy-PID控制第28-33页
    3.4 本章小结第33-34页
第四章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制系统硬件设计第34-44页
    4.1 现场总线第34-37页
        4.1.1 现场总线结构第34页
        4.1.2 Profibus现场总线第34-36页
        4.1.3 工业以太网第36页
        4.1.4 RS485 总线第36-37页
    4.2 基于多总线的稳弧搅拌控制硬件构成第37-42页
        4.2.1 系统整体方案第37页
        4.2.2 控制系统硬件构成第37-38页
        4.2.3 系统硬件配置选型第38-42页
    4.3 控制系统I/O点第42-43页
    4.4 本章小结第43-44页
第五章 真空自耗电弧炉稳弧搅拌控制系统软件设计第44-60页
    5.1 稳弧搅拌控制系统软件架构第44页
    5.2 人机界面设计第44-49页
        5.2.1 登陆界面第45-46页
        5.2.2 系统工况图第46-47页
        5.2.3 稳弧搅拌参数设定界面第47-48页
        5.2.4 曲线显示界面第48页
        5.2.5 报警界面第48-49页
    5.3 数据采集与控制第49-50页
    5.4 稳弧搅拌参数的关联关系实现第50-54页
        5.4.1 SQL SEVER第50-51页
        5.4.2 组态王中电流关联选择的SQL实现第51-54页
    5.5 稳弧搅拌控制算法实现第54-58页
        5.5.1 OPC技术第54-55页
        5.5.2 组态王中控制算法的OPC实现第55-57页
        5.5.3 基于OPC的数据交换程序设计第57页
        5.5.4 稳弧搅拌控制程序设计第57-58页
        5.5.5 Fuzzy-PID算法程序设计第58页
    5.6 本章小结第58-60页
第六章 系统调试与运行第60-65页
    6.1 调试阶段第60页
    6.2 硬件调试第60-61页
    6.3 软件调试第61页
    6.4 试运行及结果分析第61-64页
        6.4.1 系统试运行第61-63页
        6.4.2 运行结果分析第63-64页
    6.5 本章小结第64-65页
第七章 结论第65-67页
    7.1 结论第65页
    7.2 创新点第65页
    7.3 展望第65-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-71页
攻读硕士学位期间发表的论文第71-72页

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