SiC增强AZ91D镁合金微弧氧化膜层的研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| ·镁合金的特性及应用现状 | 第11-13页 |
| ·镁及其合金的特性 | 第11页 |
| ·镁合金的应用现状 | 第11-13页 |
| ·镁合金应用面临的问题及对策 | 第13页 |
| ·镁合金的表面处理 | 第13-16页 |
| ·化学转化处理 | 第14页 |
| ·阳极氧化 | 第14-15页 |
| ·金属涂层 | 第15页 |
| ·气相沉积 | 第15-16页 |
| ·有机涂层 | 第16页 |
| ·微弧氧化技术及其发展 | 第16-22页 |
| ·微弧氧化技术基本原理 | 第16页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术的四个阶段 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化膜层的表面形貌 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化膜层的结构 | 第19页 |
| ·微弧氧化技术的工艺流程 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化性能的影响因素 | 第20-22页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层的功能化处理 | 第22-24页 |
| ·装饰性陶瓷膜 | 第22页 |
| ·耐磨性陶瓷膜 | 第22-23页 |
| ·耐蚀性陶瓷膜 | 第23页 |
| ·润滑性陶瓷膜 | 第23-24页 |
| ·本课题研究目的和意义 | 第24-25页 |
| ·本课题研究的技术路线和主要内容 | 第25-27页 |
| ·技术路线 | 第25页 |
| ·主要内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验设备及测试方法 | 第27-33页 |
| ·实验装备 | 第27页 |
| ·其它设备 | 第27-28页 |
| ·实验材料 | 第28页 |
| ·试样的材质 | 第28页 |
| ·试样的制备 | 第28页 |
| ·实验基本操作步骤 | 第28-29页 |
| ·试样前处理 | 第28页 |
| ·电解液的配制 | 第28-29页 |
| ·微弧氧化实验 | 第29页 |
| ·试样后处理 | 第29页 |
| ·检测微弧氧化膜层性能的流程 | 第29页 |
| ·微弧氧化膜层性能的测试方法 | 第29-31页 |
| ·膜层厚度 | 第30页 |
| ·膜层形貌 | 第30页 |
| ·膜层组成 | 第30页 |
| ·膜层致密性 | 第30页 |
| ·膜层硬度 | 第30-31页 |
| ·膜层耐腐蚀性 | 第31页 |
| ·膜层耐磨损性 | 第31页 |
| ·影响镁合金微弧氧化膜结构与性能的因素 | 第31-32页 |
| ·制备镁合金微弧氧化复合膜层的可行性 | 第32-33页 |
| 第3章 实验部分 | 第33-50页 |
| ·镁合金微弧氧化复合膜层的制备 | 第33页 |
| ·电解液的配制 | 第33页 |
| ·工艺参数的选取 | 第33页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层的制备 | 第33页 |
| ·氧化时间-电压曲线 | 第33-36页 |
| ·电流密度对膜层的影响 | 第36页 |
| ·膜层厚度分析 | 第36-37页 |
| ·膜层硬度 | 第37-38页 |
| ·复合膜层XRD 物相分析 | 第38-39页 |
| ·电子探针分析 | 第39-40页 |
| ·能谱分析 | 第40-43页 |
| ·表面形貌分析 | 第43-44页 |
| ·电化学腐蚀 | 第44-46页 |
| ·膜层干摩擦性能 | 第46-49页 |
| ·干摩擦性能 | 第46页 |
| ·结果讨论 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 结论与展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第56页 |
