基于INPHO和像素工厂的真正射影像制作与对比分析
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 选题依据与研究意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.3 研究的内容和方法 | 第11-12页 |
| 1.4 论文结构 | 第12-13页 |
| 第2章 真正射影像理论基础 | 第13-18页 |
| 2.1 数字高程模型 | 第13-15页 |
| 2.1.1 DEM的表示形式 | 第13-14页 |
| 2.1.2 DEM数据的来源和采集方法 | 第14-15页 |
| 2.2 数字表面模型 | 第15-16页 |
| 2.2.1 DSM的采集方法 | 第15页 |
| 2.2.2 DSM的格式转换 | 第15-16页 |
| 2.3 数字建筑模型 | 第16-18页 |
| 第3章 真正射影像制作原理 | 第18-24页 |
| 3.1 数字微分纠正的原理 | 第18-20页 |
| 3.2 遮蔽区域检测与补偿 | 第20-24页 |
| 3.2.1 遮蔽区域检测的原理 | 第21-22页 |
| 3.2.2 遮蔽区域补偿的原理 | 第22-24页 |
| 第4章 真正射影像制作流程 | 第24-41页 |
| 4.1 基于INPHO的生产流程 | 第24-30页 |
| 4.1.1 空中三角测量 | 第24-27页 |
| 4.1.2 DBM的生成 | 第27-28页 |
| 4.1.3 真正射影像的生成 | 第28-30页 |
| 4.2 基于像素工厂的制作流程 | 第30-32页 |
| 4.2.1 空中三角测量 | 第31页 |
| 4.2.2 真正射影像的生成 | 第31-32页 |
| 4.3 流程比较 | 第32-41页 |
| 第5章 试验结果对比与分析 | 第41-46页 |
| 第6章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 6.1 总结 | 第46页 |
| 6.2 展望 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
