| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·固定源氮氧化物控制技术 | 第10-12页 |
| ·源控制 | 第10页 |
| ·后处理 | 第10-12页 |
| ·氨选择性催化还原氮氧化物（NH_3-SCR）技术 | 第12-16页 |
| ·NH_3-SCR 技术原理 | 第12-13页 |
| ·NH_3-SCR 催化剂 | 第13-15页 |
| ·NH_3-SCR 系统 | 第15-16页 |
| ·氧化锰基催化剂低温 NH_3-SCR 技术研究进展 | 第16-22页 |
| ·氧化锰催化剂 | 第17-20页 |
| ·锰基复合氧化物催化剂 | 第20-22页 |
| ·本课题研究的主要内容和技术路线 | 第22-26页 |
| ·氧化锰分子筛催化剂 | 第22-24页 |
| ·本论文的构思 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-37页 |
| ·催化剂的制备 | 第30-33页 |
| ·化学试剂 | 第30页 |
| ·仪器设备 | 第30-32页 |
| ·制备方法 | 第32-33页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第33-35页 |
| ·NH_3-SCR 催化性能 | 第33-34页 |
| ·NH_3 吸附脱附反应 | 第34-35页 |
| ·NO 程序升温脱附反应（NO-TPD） | 第35页 |
| ·催化剂的表征 | 第35-37页 |
| ·催化剂的晶相分析（XRD） | 第35页 |
| ·催化剂比表面积测定（BET） | 第35页 |
| ·催化剂元素分析（ICP-AES & XRF） | 第35-36页 |
| ·程序升温还原（H_2-TPR） | 第36页 |
| ·X 射线光电子能谱分析（XPS） | 第36页 |
| ·热重分析（TG） | 第36页 |
| ·扫描电子显微镜测试（SEM） | 第36页 |
| ·透射电子显微镜测试（TEM） | 第36页 |
| ·激光拉曼光谱测试（Laser Raman） | 第36-37页 |
| 第三章 氧化锰分子筛催化剂结构和低温 NH_3-SCR 性能表征 | 第37-51页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·催化性能评价 | 第37-41页 |
| ·催化剂的基本物理参数 | 第37-39页 |
| ·NH_3-SCR 催化性能 | 第39页 |
| ·NH_3+O_2 过渡态反应 | 第39-41页 |
| ·催化剂的表征 | 第41-45页 |
| ·XPS | 第41-42页 |
| ·TG 分析 | 第42-43页 |
| ·SEM 表征 | 第43页 |
| ·TEM 表征 | 第43-45页 |
| ·氧化锰分子筛结构—催化性能关系分析 | 第45-47页 |
| ·水汽的影响 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 掺钒对氧化锰分子筛的 NH_3-SCR 性能影响 | 第51-71页 |
| ·前言 | 第51页 |
| ·催化剂结构表征 | 第51-58页 |
| ·XRD | 第51-52页 |
| ·Laser Raman | 第52-53页 |
| ·BET 及元素分析 | 第53页 |
| ·H_2-TPR | 第53-54页 |
| ·SEM | 第54-55页 |
| ·TEM | 第55-56页 |
| ·XPS | 第56-58页 |
| ·催化剂活性评价 | 第58-63页 |
| ·NH_3-SCR 催化性能 | 第58-59页 |
| ·NH_3 吸附脱附反应 | 第59-61页 |
| ·NO-TPD | 第61-62页 |
| ·N_2 选择性 | 第62-63页 |
| ·V-OMS-2 催化剂构效关系分析 | 第63-64页 |
| ·催化剂抗毒性能研究 | 第64-66页 |
| ·抗硫性能 | 第65-66页 |
| ·抗水性能 | 第66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 第五章 结论和建议 | 第71-73页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| ·建议 | 第72-73页 |
| 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
