| 中文摘要 | 第4-5页 |
| 英文摘要 | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化产氢的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.3 光催化产氢的影响因素 | 第11-12页 |
| 1.3.1 半导体的禁带宽度 | 第11页 |
| 1.3.2 半导体的晶体结构和结晶度 | 第11页 |
| 1.3.3 半导体的粒径 | 第11-12页 |
| 1.3.4 助催化剂 | 第12页 |
| 1.3.5 牺牲试剂 | 第12页 |
| 1.4 提高光催化产氢活性的途径 | 第12-14页 |
| 1.4.1 离子掺杂 | 第12-13页 |
| 1.4.2 贵金属沉积 | 第13页 |
| 1.4.3 半导体复合 | 第13-14页 |
| 1.5 光催化分解水产氢的研究进展 | 第14-15页 |
| 1.5.1 金属氧化物和金属硫化物半导体产氢研究进展 | 第14页 |
| 1.5.2 以MOF结构为基底支撑半导体产氢研究进展 | 第14-15页 |
| 1.6 多金属氧酸盐简介 | 第15-16页 |
| 1.6.1 多金属氧酸盐的结构 | 第15-16页 |
| 1.6.2 多金属氧酸盐在光催化产氢方面的应用 | 第16页 |
| 1.7 论文的选题依据及目的 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第二章 多酸-对氨基偶氮苯化合物的制备和光催化产氢活性研究 | 第21-32页 |
| 2.1 前言 | 第21页 |
| 2.2 化合物1-2的合成 | 第21-22页 |
| 2.3 化合物的结构 | 第22-26页 |
| 2.3.1 X射线晶体学衍射数据 | 第22-25页 |
| 2.3.2 晶体结构 | 第25-26页 |
| 2.4 化合物的性质表征 | 第26-30页 |
| 2.4.1 红外光谱 | 第26-27页 |
| 2.4.2 紫外吸收光谱 | 第27页 |
| 2.4.3 循环伏安测试 | 第27-28页 |
| 2.4.4 紫外可见漫反射光谱 | 第28页 |
| 2.4.5 表面光电压测试 | 第28-29页 |
| 2.4.6 化合物1光催化产氢实验 | 第29页 |
| 2.4.7 荧光测试 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 含铈多酸对MOS_2/GRAPHENE-CDS体系光催化产氢活性的研究 | 第32-39页 |
| 3.1 前言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-33页 |
| 3.2.1 MoS_2的制备 | 第32页 |
| 3.2.2 MoS_2/Graphene-CdS(M/G-CdS)催化剂的制备 | 第32-33页 |
| 3.2.3 含铈多酸的合成 | 第33页 |
| 3.2.4 产氢实验 | 第33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-37页 |
| 3.3.1 扫描电镜(SEM)形貌表征 | 第33页 |
| 3.3.2 不同种类多酸对M/G-CdS体系产氢的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.3 多酸含量对产氢量的影响 | 第34页 |
| 3.3.4 牺牲试剂含量对产氢量的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.5 紫外光谱测试分析 | 第35页 |
| 3.3.6 电催化乳酸测试 | 第35-36页 |
| 3.3.7 反应机理图 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第四章 H_3SIW_(12)O_(40)@UIO-67/MOS_2/GRAPHENE-CDS催化剂的制备及其催化产氢活性的研究 | 第39-52页 |
| 4.1 前言 | 第39页 |
| 4.2 实验部分 | 第39-40页 |
| 4.2.1 UiO-67的合成方法 | 第39-40页 |
| 4.2.2 SiW_(12)@UiO-67的合成方法 | 第40页 |
| 4.2.3 MoS_2/graphene制备 | 第40页 |
| 4.2.4 SiW_(12)@UiO-67/M/G-CdS催化剂的制备 | 第40页 |
| 4.2.5 光催化产氢 | 第40页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第40-49页 |
| 4.3.1 红外光谱测试 | 第40-41页 |
| 4.3.2 X射线粉末衍射 | 第41页 |
| 4.3.3 扫描电镜和透射电镜形貌表征 | 第41-42页 |
| 4.3.4 XPS结果分析 | 第42-45页 |
| 4.3.5 光催化产氢活性分析 | 第45-46页 |
| 4.3.6 催化剂稳定性测试 | 第46页 |
| 4.3.7 莫特肖特基曲线 | 第46页 |
| 4.3.8 光电流性能测试 | 第46-47页 |
| 4.3.9 紫外可见电子光谱 | 第47-48页 |
| 4.3.10 比表面积测试 | 第48页 |
| 4.3.11 产氢机理图 | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第54页 |
