摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
第一章 引言 | 第9-23页 |
·四氟化硅的性质及危害 | 第9-13页 |
·四氟化硅的物理性质 | 第9-10页 |
·四氟化硅的分子结构 | 第10-11页 |
·四氟化硅的化学性质 | 第11-12页 |
·四氟化硅的安全警示 | 第12-13页 |
·储存方法 | 第12页 |
·操作主要事项 | 第12页 |
·泄漏应急处理 | 第12-13页 |
·四氟化硅的应用 | 第13-14页 |
·等离子体还原四氟化硅生产多晶硅 | 第13页 |
·四氟化硅制备太阳能级多晶硅 | 第13-14页 |
·四氟化硅制备氮化硅和三氟化氮 | 第14页 |
·四氟化硅的国内外研究现状 | 第14-21页 |
·四氟化硅的生产工艺 | 第15-17页 |
·六氟硅酸盐制备四氟化硅 | 第15页 |
·氟硅酸钠与浓硫酸反应制备四氟化硅 | 第15-16页 |
·Si-HF合成法 | 第16页 |
·单质硅与氟气反应制备 | 第16页 |
·氟硅酸制备四氟化硅 | 第16-17页 |
·四氟化铀与二氧化硅制取四氟化硅 | 第17页 |
·四氟化硅的纯化技术 | 第17-18页 |
·四氟化硅中六氟二甲基硅醚的纯化 | 第17页 |
·四氟化硅中不凝性组分的纯化 | 第17-18页 |
·四氟化硅气体中P,As等杂质的纯化 | 第18页 |
·其他的纯化方法 | 第18页 |
·四氟化硅的杂质分析方法 | 第18-21页 |
·质谱法 | 第19页 |
·气相色谱法 | 第19-20页 |
·红外光谱法 | 第20-21页 |
·等离子发射光谱法 | 第21页 |
·本研究的目的、内容、技术路线 | 第21-23页 |
·本研究的目的 | 第21-22页 |
·本研究的内容 | 第22页 |
·本研究的技术路线 | 第22-23页 |
第二章气相色谱法检测四氟化硅气体中的气体杂质 | 第23-41页 |
·前言 | 第23页 |
·四氟化硅中气体杂质的检测 | 第23-27页 |
·主要气体杂质 | 第23-25页 |
·检测条件 | 第25-27页 |
·实验过程 | 第27-39页 |
·实验仪器与药品 | 第27-29页 |
·实验检测过程 | 第29-30页 |
·样品气制备过程 | 第29页 |
·仪器开机过程 | 第29页 |
·H_2、O_2、N_2、CH_4、CO组分的检测过程 | 第29-30页 |
·PH_3、CO_2组分的检测过程 | 第30页 |
·实验结果与分析 | 第30-39页 |
·标准气检测结果与分析 | 第30-36页 |
·样品气检测结果与分析 | 第36-38页 |
·高纯四氟化硅样品气检测结果与分析 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第三章火焰原子吸收法检测四氟化硅气体中的金属杂质 | 第41-61页 |
·前言 | 第41-46页 |
·SiF_4气体主要金属杂质 | 第41-44页 |
·原子吸收原理 | 第44-45页 |
·火焰原子化法 | 第44页 |
·石墨炉原子化法 | 第44-45页 |
·氢化物原子化法 | 第45页 |
·原子吸收光谱法的应用 | 第45-46页 |
·实验过程 | 第46-52页 |
·实验要求 | 第46页 |
·吸收液制备原理 | 第46-47页 |
·实验仪器及试剂 | 第47-48页 |
·实验流程图 | 第48-50页 |
·SiF_4气体吸收液制备实验流程图 | 第48-49页 |
·SiF_4气体吸收液后处理方框图 | 第49页 |
·SiF_4气体吸收液制备以及后处理实验步骤 | 第49-50页 |
·实验仪器条件 | 第50-52页 |
·实验结果与分析 | 第52-60页 |
·标准溶液的数据处理 | 第52-56页 |
·标准溶液配制 | 第52-53页 |
·标准溶液曲线绘制 | 第53-56页 |
·实验结果及分析 | 第56-60页 |
·吸收液实验数据 | 第56-57页 |
·金属杂质检测数据分析 | 第57-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第四章光谱法检测四氟化硅气体中的氟化氢气体 | 第61-68页 |
·前言 | 第61-64页 |
·氟化氢的物理性质 | 第61-62页 |
·氟化氢的化学性质 | 第62页 |
·氟化氢的来源 | 第62页 |
·傅里叶变换光谱 | 第62-64页 |
·实验过程 | 第64-65页 |
·实验仪器及试剂 | 第64页 |
·实验步骤 | 第64-65页 |
·样品气收集步骤 | 第64-65页 |
·红外测样步骤 | 第65页 |
·实验结果与讨论 | 第65-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第五章 结论和展望 | 第68-71页 |
·总结 | 第68-69页 |
·结论 | 第68-69页 |
·创新点 | 第69页 |
·展望 | 第69-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
图版 | 第78-81页 |