微米尺度膜厚薄膜热电偶传感器的研制
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目次 | 第9-12页 |
| 图清单 | 第12-14页 |
| 附表清单 | 第14-15页 |
| 1 绪论 | 第15-24页 |
| ·课题研究背景和意义 | 第15-18页 |
| ·国内外研究现状 | 第18-22页 |
| ·薄膜热电传感器研究现状 | 第18-19页 |
| ·传感器电极材料研究现状 | 第19-20页 |
| ·薄膜制备工艺研究现状 | 第20-22页 |
| ·课题主要研究内容 | 第22-23页 |
| ·课题研究技术指标 | 第22页 |
| ·课题主要研究内容 | 第22-23页 |
| ·课题论文组织及结构 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 2 热电偶理论及薄膜传感器的设计 | 第24-40页 |
| ·热电偶工作原理及四大定律 | 第24-30页 |
| ·热电效应 | 第24-27页 |
| ·热电偶四个重要定律 | 第27-30页 |
| ·薄膜传感器方案设计 | 第30-34页 |
| ·薄膜热电偶结构设计 | 第31-32页 |
| ·薄膜传感器的版图及尺寸设计 | 第32页 |
| ·掩膜的设计 | 第32-34页 |
| ·材料的选取 | 第34-38页 |
| ·基板材料 | 第34-35页 |
| ·热电极材料 | 第35-37页 |
| ·绝缘保护层材料 | 第37-38页 |
| ·传感器补偿导线的选择 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 3 制备及工艺研究 | 第40-53页 |
| ·薄膜制备工艺简介 | 第40-43页 |
| ·真空蒸镀 | 第41页 |
| ·溅射 | 第41-42页 |
| ·离子镀 | 第42页 |
| ·技术局限性 | 第42页 |
| ·制膜要求 | 第42-43页 |
| ·基于电子印刷工艺的薄膜制备方法 | 第43-45页 |
| ·薄膜热电偶的制备过程及工艺参数 | 第45-50页 |
| ·主要的印刷前处理工艺 | 第46页 |
| ·薄膜制备设备 | 第46-47页 |
| ·热电偶传感器的制备工序 | 第47-48页 |
| ·印后处理工艺及设备 | 第48-49页 |
| ·制备工艺参数 | 第49-50页 |
| ·电性能及形态分析测试 | 第50-51页 |
| ·绝缘性 | 第50页 |
| ·附着力 | 第50页 |
| ·电极连续性 | 第50-51页 |
| ·引线及封装工艺 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 薄膜传感器的静态标定 | 第53-65页 |
| ·热电偶的静态标定方法 | 第53-54页 |
| ·标定注意事项 | 第53-54页 |
| ·标定过程及装置 | 第54-55页 |
| ·标定结果及精度分析 | 第55-63页 |
| ·准确度实验及结果 | 第55-57页 |
| ·特征曲线拟合及拟合误差 | 第57-59页 |
| ·准确度分析 | 第59页 |
| ·不确定度分析 | 第59-60页 |
| ·重复性分析 | 第60-62页 |
| ·一致性测定 | 第62-63页 |
| ·传感器的误差分析及补偿 | 第63-64页 |
| ·误差来源分析 | 第63页 |
| ·补偿方法研究 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 5 薄膜热电偶的动态参数测定试验 | 第65-72页 |
| ·动态标定方案研究 | 第65-67页 |
| ·动态响应时间常数 | 第67-68页 |
| ·动态参数测定过程 | 第68-71页 |
| ·实验设备 | 第69页 |
| ·实验数据 | 第69-70页 |
| ·误差分析 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 6 结论与展望 | 第72-74页 |
| ·总结 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 作者简历 | 第77页 |
