摘要 | 第1-3页 |
Abstract | 第3-8页 |
第一章 绪论 | 第8-22页 |
·光催化剂的催化机理与光催化材料的研究历史 | 第8-9页 |
·光催化剂的催化机理 | 第8-9页 |
·光催化材料的研究历史 | 第9页 |
·氮化碳的概述 | 第9-15页 |
·氮化碳的历史 | 第9-10页 |
·氮化碳的结构 | 第10-12页 |
·g-C_3N_4的性质 | 第12-14页 |
·g-C_3N_4的制备方法 | 第14-15页 |
·g-C_3N_4在光催化方面的应用 | 第15-17页 |
·g-C_3N_4光解水制氢 | 第15页 |
·g-C_3N_4光降解有机染料 | 第15-16页 |
·g-C_3N_4光电转换 | 第16页 |
·g-C_3N_4催化有机反应 | 第16-17页 |
·影响g-C_3N_4光催化活性的因素 | 第17-20页 |
·比表面积 | 第17页 |
·金属离子的掺杂 | 第17-18页 |
·贵金属的沉积 | 第18-19页 |
·非金属元素的掺杂 | 第19-20页 |
·半导体的复合 | 第20页 |
·本文的研究内容及创新点 | 第20-22页 |
·本文的研究内容 | 第20-21页 |
·本文的创新点 | 第21-22页 |
第二章 实验部分 | 第22-28页 |
·实验原料及仪器 | 第22-23页 |
·光催化剂的表征 | 第23-25页 |
·比表面积(BET) | 第23页 |
·X射线粉末衍射(XRD) | 第23-24页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第24页 |
·紫外光谱可见光谱(UV-vis) | 第24页 |
·红外光谱(FT-IR) | 第24页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
·透射电子显微镜TEM | 第24-25页 |
·热重分析(TG) | 第25页 |
·光催化活性评价 | 第25-28页 |
·实验装置 | 第25-26页 |
·活性评价实验 | 第26-28页 |
第三章 高比表面积g-C_3N_4的制备与光催化性能研究 | 第28-38页 |
·前言 | 第28页 |
·实验方法 | 第28-30页 |
·g-C_3N_4的制备 | 第28-29页 |
·高比表面积g-C_3N_4的制备 | 第29-30页 |
·高比表面积g-C_3N_4的表征结果与讨论 | 第30-35页 |
·比表面积 | 第30页 |
·X射线粉末衍射(XRD) | 第30-31页 |
·红外吸收光谱(FT-IR) | 第31-32页 |
·SEM图 | 第32-33页 |
·热重分析 | 第33-34页 |
·紫外可见光谱 | 第34-35页 |
·g-C_3N_4及高比表面积g-C_3N_4光催化性能的结果与讨论 | 第35-37页 |
·光照强度对催化剂活性的影响 | 第35-36页 |
·比表面积对光催化剂活性的影响 | 第36-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第四章 Au掺杂g-C_3N_4的制备及光催化性能研究 | 第38-46页 |
·前言 | 第38页 |
·实验方法 | 第38-39页 |
·结果与讨论 | 第39-42页 |
·煅烧温度对样品结构的影响 | 第39-42页 |
·XRD | 第39-40页 |
·TEM图 | 第40-41页 |
·紫外可见吸收光谱 | 第41-42页 |
·Au掺杂样品的光催化性能的结果与讨论 | 第42-44页 |
·煅烧温度对光催化活性的影响 | 第42页 |
·Au含量对催化剂活性的影响 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第五章 RuO_2掺杂g-C_3N_4的制备及光催化性能研究 | 第46-56页 |
·前言 | 第46页 |
·实验方法 | 第46-47页 |
·RuO_2掺杂高比表面积g-C_3N_4的表征结果与讨论 | 第47-52页 |
·XRD | 第47-48页 |
·XPS | 第48页 |
·TEM图 | 第48-50页 |
·UV-vis | 第50-52页 |
·样品光催化性能的结果与讨论 | 第52-54页 |
·RuO_2的含量对催化剂催化活性的影响 | 第52-53页 |
·比表面积对RuO_2掺杂样品的活性的影响 | 第53页 |
·催化机理的分析 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
攻读学位期间发表学术论文及参加学术会议情况 | 第68页 |
参加的学术会议 | 第68-69页 |