| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·光伏概述 | 第10-13页 |
| ·太阳能概述与全球光伏产业发展状况 | 第10-11页 |
| ·中国能源形势及光伏产业发展状况 | 第11-13页 |
| ·晶体硅太阳能电池概述及其工艺流程 | 第13-15页 |
| ·太阳能电池的性能参数 | 第15-17页 |
| ·黑硅概述 | 第17-18页 |
| ·SiO_2薄膜及其制备方法 | 第18-21页 |
| ·SiO_2薄膜概述 | 第18-19页 |
| ·SiO_2薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第19页 |
| ·化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第20页 |
| ·热氧化法 | 第20-21页 |
| ·液相沉积法 | 第21页 |
| ·本文的研究意义和内容 | 第21-23页 |
| 第二章 SiO_2薄膜的液相沉积法制备原理及表征方法 | 第23-31页 |
| ·制备原理及流程 | 第23-25页 |
| ·制备原理 | 第23页 |
| ·SiO_2薄膜的生长模型 | 第23-24页 |
| ·制备流程 | 第24-25页 |
| ·表征方法 | 第25-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
| ·傅里叶变换红外光谱仪（FTIR） | 第26-27页 |
| ·X 射线能量色散谱仪（EDS） | 第27-28页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第28-29页 |
| ·反射率测试仪 | 第29-30页 |
| ·少子寿命测试仪 | 第30-31页 |
| 第三章 SiO_2薄膜的制备及表征 | 第31-44页 |
| ·硼酸浓度的影响 | 第31-33页 |
| ·氟硅酸浓度的影响 | 第33-36页 |
| ·沉积温度的影响 | 第36-39页 |
| ·沉积时间的影响 | 第39-41页 |
| ·傅里叶变换红外光谱表征 | 第41-42页 |
| ·X 射线能量色散谱表征 | 第42页 |
| ·X 射线衍射表征 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 在黑硅电池片上的应用研究 | 第44-51页 |
| ·实验过程 | 第44页 |
| ·实验结果表征与分析 | 第44-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结及展望 | 第51-53页 |
| ·总结 | 第51-52页 |
| ·展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |