| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-30页 |
| ·高温超导发展背景 | 第15-18页 |
| ·技术研究进展 | 第18-25页 |
| ·高温超导薄膜的技术研究进展 | 第18-19页 |
| ·高温超导光热非线性的技术研究进展 | 第19-23页 |
| ·高温超导光化学刻蚀的技术研究进展 | 第23-25页 |
| ·课题来源及论文的主要工作 | 第25-30页 |
| 第二章 YBCO 高温超导薄膜器件及系统 | 第30-70页 |
| ·谐振器设计及耦合分析 | 第31-40页 |
| ·开口环谐振器间耦合方式选择 | 第31页 |
| ·开口环谐振器间耦合系数分析 | 第31-38页 |
| ·电场耦合 | 第32-34页 |
| ·磁场耦合 | 第34-36页 |
| ·混合耦合 | 第36-38页 |
| ·其它结构谐振器间的耦合分析 | 第38-39页 |
| ·混合耦合时大耦合系数的设计及获取 | 第39-40页 |
| ·星载高温超导滤波器研制 | 第40-47页 |
| ·星载高温超导滤波器的设计与仿真 | 第41-45页 |
| ·星载高温超导滤波器的制作与测试 | 第45-47页 |
| ·低刻蚀误差影响高温超导滤波器的研制 | 第47-52页 |
| ·低刻蚀误差影响高温超导滤波器的设计与仿真 | 第47-50页 |
| ·低刻蚀误差影响高温超导滤波器实验结果与讨论 | 第50-52页 |
| ·高温超导窄带广义切比雪夫函数滤波器 | 第52-57页 |
| ·广义切比雪夫函数滤波器理论分析 | 第53-55页 |
| ·广义切比雪夫函数低通原型 | 第53-54页 |
| ·超导滤波器与同结构常规滤波器的比较 | 第54-55页 |
| ·广义切比雪夫函数滤波器的设计与讨论 | 第55-57页 |
| ·星载高温超导微波双工器的研制 | 第57-62页 |
| ·星载高温超导微波双工器的设计与仿真 | 第57-60页 |
| ·星载高温超导微波双工器的制作与测试 | 第60-62页 |
| ·限幅自保护高温超导接收机前端研究 | 第62-70页 |
| ·限幅自保护高温超导接收机前端结构 | 第62-64页 |
| ·限幅自保护高温超导接收机前端的研制与测试结果分析 | 第64-70页 |
| ·高温超导限幅滤波器的研制与测试 | 第64-66页 |
| ·限幅自保护高温超导接收机前端的研制与测试 | 第66-70页 |
| 第三章 YBCO 高温超导薄膜激光化学效应研究 | 第70-87页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜激光辅助化学刻蚀的表面特性 | 第71-77页 |
| ·实验系统与基本原理 | 第71-72页 |
| ·实验结果与讨论 | 第72-77页 |
| ·YBCO 薄膜激光辅助化学刻蚀表面的变化特征 | 第72-74页 |
| ·无掩膜YBCO 薄膜激光辅助化学刻蚀程度的区域分布特征 | 第74-75页 |
| ·铝酸镧衬底晶向对YBCO 薄膜刻蚀趋向的影响 | 第75-77页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜激光辅助化学刻蚀进程中的红外特性研究 | 第77-82页 |
| ·实验系统与基本原理 | 第77-78页 |
| ·实验结果与讨论 | 第78-82页 |
| ·YBCO 薄膜激光辅助化学刻蚀进程中H_3P_04 液层侧面的红外热像 | 第78-80页 |
| ·YBCO 薄膜表面各区域的腐蚀启动先后和腐蚀程度差异 | 第80-82页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜激光辅助化学刻蚀进程中的电流特性研究 | 第82-87页 |
| ·实验系统与基本原理 | 第83页 |
| ·激光辐照对YBCO 薄膜腐蚀溶液电流特性的影响 | 第83-87页 |
| 第四章 表面吸附化学腐蚀液膜的YBCO 薄膜特性研究 | 第87-106页 |
| ·YBCO 薄膜表面腐蚀液膜温度变化特性研究 | 第88-92页 |
| ·实验系统与基本原理 | 第88-90页 |
| ·实验结果与讨论 | 第90-92页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜表面粗糙度的红外实时表征 | 第92-98页 |
| ·实验系统与实验方法 | 第93-94页 |
| ·浅液层简化热模型下的灰度标准差值与粗糙度关系分析 | 第94-96页 |
| ·实验结果与讨论 | 第96-98页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜化学反应启动时长的研究 | 第98-106页 |
| ·实验系统与基本原理 | 第99-100页 |
| ·实验结果与讨论 | 第100-106页 |
| ·不同温度线形水膜的红外灰度特征 | 第100-102页 |
| ·H_3P_0_4-H_20 液滴残留线形液膜的红外热像 | 第102-103页 |
| ·YBCO 与H_3P_0_4-H_20 反应启动时长的测定 | 第103-106页 |
| 第五章 YBCO 光控高温超导器件研制及激光辐照特性研究 | 第106-120页 |
| ·新型低插损高精度光控高温超导微波可变衰减器研制 | 第106-112页 |
| ·应用研究背景 | 第106-107页 |
| ·光控高温超导微波可变衰减器的设计与测试 | 第107-109页 |
| ·测试结果与讨论 | 第109-112页 |
| ·插入损耗 | 第109-110页 |
| ·激光功率控制实现高精度衰减量微调 | 第110-112页 |
| ·高温超导微带线光响应特性研究 | 第112-120页 |
| ·应用研究背景 | 第112-113页 |
| ·实验结果与讨论 | 第113-120页 |
| ·YBCO 高温超导微带线的非平衡光响应特性 | 第113-115页 |
| ·YBCO 高温超导微带线的光响应记忆效应 | 第115-117页 |
| ·YBCO 高温超导微带线非平衡光响应的恢复时长 | 第117-120页 |
| 第六章 结论 | 第120-123页 |
| 致谢 | 第123-124页 |
| 参考文献 | 第124-138页 |
| 攻博期间取得的研究成果 | 第138-140页 |
