| 中文摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 引言 | 第10-14页 |
| 第一章 世界主要国家、地区发明专利申请授权的比较研究 | 第14-26页 |
| ·近年发明专利申请授权总体状况 | 第14-17页 |
| ·USPTO与SIPO受理的发明专利 | 第14-15页 |
| ·JPO发明专利授权 | 第15-16页 |
| ·EPO专利申请受理 | 第16-17页 |
| ·本国(地区)和非本国(地区)居民发明专利申请授权状况 | 第17-19页 |
| ·JPO、SIPO和KIPO的发明专利申请 | 第17-18页 |
| ·JPO、KIPO的发明专利授权 | 第18-19页 |
| ·专利合作条约(PCT)的利用状况 | 第19-21页 |
| ·各国PCT国际专利申请量比较 | 第19-21页 |
| ·EPO、KIPO和SIPO的比较 | 第21页 |
| ·世界主要国家和地区之间的发明专利申请授权状况 | 第21-24页 |
| ·我国对外发明专利申请的特点 | 第21页 |
| ·国外来华发明专利申请的特点 | 第21-23页 |
| ·我国和美、日、欧、韩的双向申请的差距 | 第23页 |
| ·我国和美、日、欧、韩的双向授权的差距 | 第23-24页 |
| ·EPO的国际知识产权合作不断加深 | 第24-26页 |
| 第二章 2008年中国发明专利申请和授权状况分析 | 第26-36页 |
| ·总体状况 | 第26页 |
| ·国内企业发明专利申请和授权状况 | 第26-29页 |
| ·国外发明专利申请和授权状况 | 第29-30页 |
| ·国外发明专利申请的构成 | 第29-30页 |
| ·国外企业发明专利申请和授权状况 | 第30页 |
| ·发明专利申请的技术领域分布状况 | 第30-31页 |
| ·发明专利申请和授权的特点 | 第31-33页 |
| ·发明专利申请的主要动力 | 第31-32页 |
| ·国内职务申请与非职务申请比较 | 第32页 |
| ·日、美、欧、韩的发明专利申请 | 第32页 |
| ·专利审批综合能力建设逐步增强 | 第32页 |
| ·国内外发明专利授权特点 | 第32页 |
| ·国内外专利水平仍有明显差距 | 第32-33页 |
| ·不容忽视的问题 | 第33-36页 |
| ·规模以上工业企业有专利申请的比重不足10% | 第33-34页 |
| ·“一件专利申请” | 第34-36页 |
| 第三章 近年日韩两国在我国申请发明专利比较研究 | 第36-45页 |
| ·韩国 | 第36-39页 |
| ·近年韩国在华专利申请总体状况 | 第36-37页 |
| ·韩国在华发明专利申请布局的年度变化趋势 | 第37页 |
| ·韩国在华发明专利布局重点技术领域分析 | 第37-39页 |
| ·韩国在华发明专利布局密度较大的领域 | 第37-38页 |
| ·韩国在华发明专利布局步伐较快的领域 | 第38-39页 |
| ·韩国在华发明专利布局的特点 | 第39页 |
| ·来华布局重点在知识密集型企业 | 第39页 |
| ·韩国公司不断向我转移研发能力 | 第39页 |
| ·韩国在华发明专利布局基本完成 | 第39页 |
| ·日本 | 第39-42页 |
| ·近年来日本在华专利申请总体状况 | 第40页 |
| ·日本在华发明专利申请布局的年度变化趋势 | 第40-41页 |
| ·日本在华发明专利布局重点技术领域分析 | 第41-42页 |
| ·日本在华发明专利布局密度较大的领域 | 第41页 |
| ·日本在华发明专利布局步伐较快的领域 | 第41-42页 |
| ·日本在华发明专利布局的特点 | 第42页 |
| ·专利申请量保持上升态势，增速放缓 | 第42页 |
| ·来华专利布局重点在高新技术领域 | 第42页 |
| ·韩日专利布局战略的启示与借鉴 | 第42-45页 |
| ·实施知识产权战略 | 第43页 |
| ·强化企业主体地位 | 第43页 |
| ·建立知识产权预警机制和国际事务协调机制 | 第43页 |
| ·跨国企业对专利战略的运用值得效仿 | 第43-45页 |
| 第四章 我国的应对策略 | 第45-50页 |
| ·世界现行专利战略简述 | 第45-46页 |
| ·我国的应对策略 | 第46-50页 |
| ·完善政策法规体系 | 第47页 |
| ·加强知识产权的管理与保护 | 第47页 |
| ·建设专业的人才队伍 | 第47-48页 |
| ·建立企业公共技术平台 | 第48页 |
| ·建立公共服务支持平台 | 第48-49页 |
| ·推动中小企业信息化建设 | 第49页 |
| ·开展专利的国际交流和合作 | 第49-50页 |
| 结语 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 附录 | 第56-57页 |