| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·概述 | 第9页 |
| ·半导体气敏材料发展概况 | 第9-10页 |
| ·半导体氧化物的气敏机理 | 第10-12页 |
| ·表面电阻控制模型 | 第11页 |
| ·氧化还原模型 | 第11-12页 |
| ·接触燃烧模型 | 第12页 |
| ·气固分配平衡模型 | 第12页 |
| ·体电阻控制模型 | 第12页 |
| ·ABO_3钙钛矿型气敏材料发展现状 | 第12-17页 |
| ·ABO_3钙钛矿型氧化物的结构 | 第13-14页 |
| ·ABO_3钙钛矿型氧化物的制备方法 | 第14-17页 |
| ·ABO_3钙钛矿型氧化物的气敏性质 | 第17页 |
| ·课题的选取及研究意义 | 第17-19页 |
| 第2章 实验部分 | 第19-27页 |
| ·试剂与仪器 | 第19-20页 |
| ·试剂 | 第19页 |
| ·仪器 | 第19-20页 |
| ·材料的制备 | 第20-22页 |
| ·纳米粉体的制备 | 第20页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-22页 |
| ·材料的表征 | 第22-23页 |
| ·物相分析 | 第22页 |
| ·热分析 | 第22-23页 |
| ·红外光谱分析 | 第23页 |
| ·形貌分析 | 第23页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第23页 |
| ·气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第23-27页 |
| ·厚膜型气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第23-25页 |
| ·薄膜型气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第25页 |
| ·气敏特性参数 | 第25-27页 |
| 第3章 钙钛矿型LaCr_(1-x)M_xO_3(M=Fe,Co,Ni,Sn,Ti)材料的气敏性能研究 | 第27-39页 |
| ·LaCr_(0.9)Co_(0.1)O_3化合物的制备及气敏性能研究 | 第27-29页 |
| ·LaCr_(0.9)Co_(0.1)O_3凝胶前驱体的热分析 | 第27-28页 |
| ·LaCr_(0.9)Co_(0.1)O_3粉体的物相分析 | 第28-29页 |
| ·LaCr_(0.9)Co_(0.1)O_3材料的气敏性能 | 第29页 |
| ·LaCr_(0.9)Fe_(0.1)O_3化合物的制备及气敏性能研究 | 第29-31页 |
| ·LaCr_(0.9)Fe_(0.1)O_3粉体的物相分析 | 第29-30页 |
| ·LaCr_(0.9)Fe_(0.1)O_3材料的气敏性能 | 第30-31页 |
| ·LaCr_(0.9)Ni_(0.1)O_3化合物的制备及气敏性能 | 第31-32页 |
| ·LaCr_(0.9)Ni_(0.1)O_3化合物的物相分析 | 第31页 |
| ·LaCr_(0.9)Ni_(0.1)O_3材料的气敏性能 | 第31-32页 |
| ·LaCr_(1-x)Sn_xO_3(x=0.0-0.1)化合物的制备及气敏性能 | 第32-33页 |
| ·LaCr_(1-x)Sn_xO_3(x=0.0-0.1)化合物的物相分析 | 第32-33页 |
| ·LaCr_(0.95)Sn_(0.05)O_3材料的气敏性能 | 第33页 |
| ·LaCr_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.4)化合物的制备及气敏性能 | 第33-37页 |
| ·LaCr_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.4)化合物的制备 | 第33-34页 |
| ·LaCr_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.3)系列化合物的气敏性能 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 LaNi_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-1.0)化合物的制备及性能研究 | 第39-58页 |
| ·LaNi_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-1.0)化合物的制备与晶体结构分析 | 第39-43页 |
| ·LaNi_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.8)化合物的红外光谱,扫描电镜与EDAX能谱分析 | 第43-45页 |
| ·LaNi_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.8)化合物的导电性研究 | 第45-46页 |
| ·LaNi_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.5)化合物的气敏性能研究 | 第46-50页 |
| ·LaNi_(1-x)Ti_xO_3(x=0.0-0.5)化合物的X-射线光电子能谱分析 | 第50-54页 |
| ·LaNi_(0.5)Ti_(0.5)O_3化合物的丙酮气体敏感机理 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 LaNi_(0.5)Ti_(0.5)O_3化合物薄膜的制备及性能研究 | 第58-71页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第58-59页 |
| ·LaNi_(0.5)Ti_(0.5)O_3化合物薄膜的制备 | 第59-62页 |
| ·LaNi_(0.5)Ti_(0.5)O_3薄膜的表面形貌分析 | 第62-65页 |
| ·LaNi_(0.5)Ti_(0.5)O_3薄膜的X-射线光电子能谱分析 | 第65-67页 |
| ·LaNi_(0.5)Ti_(0.5)O_3薄膜的气敏性能 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第81-82页 |
