电光移相器阵列用铁电薄膜研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第一章 绪论	第9-16页
·研究背景及意义	第9-13页
·铁电电光薄膜的研究进展	第13-14页
·本课题的主要研究内容	第14-16页
第二章 薄膜制备及测试原理	第16-28页
·薄膜的制备工艺	第16页
·磁控溅射镀膜原理	第16-19页
·溅射镀膜原理	第16-17页
·磁控溅射	第17-19页
·薄膜的微结构分析	第19-20页
·XRD分析	第19-20页
·SEM分析	第20页
·AFM分析	第20页
·薄膜的电学性能分析	第20-22页
·薄膜的光学性能表征	第22-23页
·电光性能测试	第23-28页
·电光效应	第23-24页
·铁电薄膜电光性能测试	第24-28页
第三章 透明电极图形化研究	第28-40页
·电极材料的选择	第28-29页
·透明电极的制备	第29-31页
·高温退火对ITO薄膜性能影响	第31-32页
·ITO薄膜的湿法刻蚀	第32-40页
·ITO光刻工艺过程	第33-34页
·ITO薄膜湿法刻蚀	第34-40页
第四章 铁电薄膜电光性能研究	第40-67页
·PLZT薄膜电光性能研究	第40-57页
·PLZT薄膜制备	第40页
·PLZT薄膜微结构分析	第40-45页
·PLZT薄膜电学性能测试	第45-47页
·PLZT薄膜光学性能分析	第47-53页
·PLZT薄膜电光系数测试	第53-57页
·BST薄膜电光性能研究	第57-65页
·BST薄膜制备	第57-58页
·BST薄膜电学性能测试	第58-60页
·BST薄膜光学性能分析	第60-63页
·BST薄膜电光系数测试	第63-65页
·PLZT与BST性能比较	第65-67页
第五章 结论	第67-68页
致谢	第68-69页
参考文献	第69-74页
攻硕期间取得的研究成果	第74页