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嵌段共聚物在受限状态下自组装的模拟研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-38页
 1 前言第10页
 2 熔融状态下嵌段共聚物的自组装研究第10-22页
   ·嵌段共聚物在本体中的自组装结构第11-13页
   ·嵌段共聚物在受限状态下的自组装研究第13-22页
 3 计算机模拟研究的理论与方法第22-31页
   ·Monte Carlo方法第23-27页
   ·自洽场理论(Self-Consistent Field Theory,SCFT)第27-31页
 4 本论文研究的主要内容和意义第31-33页
 参考文献第33-38页
第二章 层状对称二嵌段共聚物在纳米孔内的自组装结构第38-48页
 1 前言第38-39页
 2 理论和方法第39-40页
   ·格子模型与Metropolis抽样方法第39-40页
   ·体系参数设置第40页
 3 结果与讨论第40-46页
   ·孔径D=16第40-42页
   ·孔径D=22第42-44页
   ·孔径D=26第44-45页
   ·周期性边界条件的影响第45页
   ·结论第45-46页
 参考文献第46-48页
第三章 柱状二嵌段共聚物受限在纳米孔内的自组装结构第48-68页
 1 前言第48-49页
 2 理论和方法第49-51页
   ·实空间自洽场模型第49-50页
   ·体系模型和参数设置第50-51页
 3 结果与讨论第51-59页
   ·体系在亲A表面场作用下的自组装情况第51-56页
   ·体系在亲B表面场作用下的自组装情况第56-57页
   ·体系在中性孔壁内的自组装情况第57-58页
   ·与实验研究结果的比较第58-59页
   ·结论第59页
 参考文献第59-61页
 附录第61-68页
第四章 嵌段共聚物受限在三维球壳内自组装的相行为第68-82页
 1 前言第68-69页
 2 理论和方法第69-70页
   ·实空间自洽场理论第69页
   ·体系模型和参数设置第69-70页
 3 结果与讨论第70-79页
   ·弱相分离体系(f_A=0.36,x~N=14)第70-73页
   ·强相分离体系(f_A=0.2,x~N=40)第73-77页
   ·中度相分离体系(f_A=0.25,x~N=25)第77-79页
   ·结论第79页
 参考文献第79-82页
第五章 柱状三嵌段共聚物受限在平行板间的自组装结构第82-103页
 1 前言第82-83页
 2 理论和方法第83-87页
   ·消除周期性边界条件的影响第83页
   ·模拟退火过程第83-84页
   ·体系模型和参数设置第84页
   ·自组装结构性质表征第84-87页
 3 结果与讨论第87-100页
   ·判定模拟体系的尺寸第87页
   ·比较A_(13)B_2C_3与A_(15)C_3体系第87-90页
   ·薄膜表面呈中性条件下的情况第90-93页
   ·薄膜表面吸引A嵌段组分条件下的情况第93-95页
   ·薄膜表面吸引B嵌段组分条件下的情况第95-96页
   ·薄膜表面吸引C嵌段组分条件下的情况第96-99页
   ·结论第99-100页
 参考文献第100-103页
第六章 柱状三嵌段共聚物受限在纳米孔内的自组装结构第103-118页
 1 前言第103页
 2 理论和方法第103-106页
   ·格子模型和模拟退火算法第103-104页
   ·体系参数设置第104页
   ·表面密度分布和链转动方向第104-105页
   ·命名自组装结构第105-106页
 3 结果与讨论第106-115页
   ·计算聚合物的重复周期第106页
   ·孔壁呈中性(neutral)第106-110页
   ·孔壁吸引A嵌段(A-attractive)第110-111页
   ·孔壁吸引B嵌段(B-attractive)第111-112页
   ·孔壁吸引C嵌段(C-attractive)第112-113页
   ·孔壁同时吸引B、C嵌段(B/C-attractive)第113页
   ·孔壁同时吸引A、C嵌段(A/C-attractive)第113-114页
   ·结论第114-115页
 参考文献第115-118页
致谢第118-119页
攻读学位期间的论文情况第119页

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