新型水质稳定剂（DAATMP）的合成及其缓蚀阻垢性能试验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| CONTENTS | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·缓蚀和阻垢原理 | 第13-25页 |
| ·缓蚀作用机理 | 第13-21页 |
| ·阻垢作用机理 | 第21-25页 |
| ·有机膦系列水质稳定剂的研究进展 | 第25-27页 |
| ·有机膦水质稳定剂概述 | 第25-26页 |
| ·国内外研究状况 | 第26-27页 |
| ·研究意义 | 第27页 |
| ·本研究设想 | 第27-28页 |
| ·本研究内容与创新之处 | 第28-30页 |
| ·研究内容 | 第28页 |
| ·创新之处 | 第28-30页 |
| 第二章 DAATMP水质稳定剂的合成及表征 | 第30-36页 |
| ·实验药品、试剂及仪器设备 | 第30-31页 |
| ·实验药品、试剂 | 第30-31页 |
| ·试验仪器及设备 | 第31页 |
| ·合成实验 | 第31-36页 |
| 第三章 DAATMP的阻垢性能实验 | 第36-44页 |
| ·阻垢性能的测定方法 | 第36-37页 |
| ·测定及计算方法 | 第36页 |
| ·实验装置 | 第36-37页 |
| ·DAATMP的阻垢性能实验 | 第37-42页 |
| ·DAATMP的用量与阻垢性能的关系 | 第37-38页 |
| ·pH值改变对阻垢性能的影响 | 第38-39页 |
| ·[Ca~(2+)]浓度改变对阻垢率的影响 | 第39页 |
| ·阻垢反应时间改变对阻垢率的影响 | 第39-40页 |
| ·正交实验 | 第40-42页 |
| ·阻垢性能对比实验 | 第42页 |
| ·阻垢性能实验小结 | 第42-44页 |
| 第四章 DAATMP的缓蚀性能实验 | 第44-51页 |
| ·缓蚀性能测定方法 | 第44-46页 |
| ·测定方法 | 第44-45页 |
| ·测定步骤和缓蚀率的计算方法 | 第45-46页 |
| ·DAATMP的缓蚀性能测定 | 第46-50页 |
| ·DAATMP对 A_3碳钢的缓蚀效果实验 | 第46-49页 |
| ·DAATMP对铜片的缓蚀效果实验 | 第49-50页 |
| ·缓蚀性能实验小结 | 第50-51页 |
| 第五章 DAATMP阻垢缓蚀机理探讨 | 第51-54页 |
| ·DAATMP的阻垢机理 | 第51-53页 |
| ·络合增溶作用 | 第51-52页 |
| ·晶格畸变理论 | 第52页 |
| ·静电斥力作用 | 第52-53页 |
| ·DAATMP对金属的缓蚀机理 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
