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结合磁过滤阴极弧等离子体沉积技术制备高质量半导体薄膜的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第1章 绪论第9-31页
   ·等离子体及其特征第9-11页
     ·等离子体的概念第9-10页
     ·低温等离子体技术的最新进展与展望第10-11页
   ·磁过滤阴极弧等离子体沉积技术第11-20页
     ·阴极弧简介第11-13页
     ·宏观粒子过滤装置第13-16页
     ·阴极弧过程中薄膜的生长第16-20页
   ·磁过滤沉积设备及其改进第20-25页
     ·磁过滤沉积设备简介第20-23页
     ·磁过滤设备的改进第23-25页
   ·研究背景和选题依据第25-28页
     ·研究背景第25-27页
     ·选题依据第27-28页
 参考文献第28-31页
第2章 结合磁过滤阴极弧等离子体沉积技术制备类金刚石薄膜的研究第31-45页
   ·无氢类金刚石碳膜第31-34页
     ·DLC 膜的性质第31-32页
     ·DLC 膜的结构第32页
     ·DLC 膜的sp~3/ sp~2 成分分析第32-33页
     ·无氢类金刚石材料的一些主要性能第33页
     ·类金刚石薄膜的用途第33-34页
   ·实验部分第34-42页
     ·实验方法第34-35页
     ·结果与讨论第35-42页
   ·结论第42-43页
 参考文献第43-45页
第3章 结合磁过滤阴极弧等离子体沉积技术制备氧化锌薄膜的研究第45-57页
   ·ZNO 的性质和功能第45-46页
     ·ZnO 性质简介第45页
     ·ZnO 功能简介第45-46页
   ·ZNO 表征方法第46-47页
   ·实验部分第47-55页
     ·实验方法第47页
     ·结果与讨论第47-55页
   ·结论第55-56页
 参考文献第56-57页
第4章 自组装技术制备稀土Y 润滑薄膜的研究第57-65页
   ·引言第57-59页
   ·实验部分第59页
     ·基片处理第59页
     ·Y_2O_3 薄膜的制备第59页
     ·薄膜的形貌分析和结构表征第59页
     ·摩擦学性能测试第59页
   ·结果与讨论第59-63页
     ·薄膜的结构表征第59-61页
     ·Y 薄膜的摩擦学性能第61-63页
   ·结论第63-64页
 参考文献第64-65页
第5章 结论与展望第65-66页
研究生期间完成和发表的文章第66-67页
致谢第67页

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