| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·选题背景及意义 | 第9-12页 |
| ·单晶MgO基片高质量表面保护研究现状 | 第12-13页 |
| ·课题来源及主要研究内容 | 第13-15页 |
| ·课题来源 | 第13页 |
| ·主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 实验设备与样品制备 | 第15-24页 |
| ·实验设备 | 第15-19页 |
| ·化学机械抛光加工设备 | 第15-16页 |
| ·表面检测设备 | 第16-19页 |
| ·样品制备 | 第19-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 3 单晶MgO抛光基片高质量表面保护实验研究 | 第24-51页 |
| ·单晶MgO(100)抛光基片在不同环境下的表面变化研究 | 第24-35页 |
| ·实验方案设计 | 第24-25页 |
| ·基片表面形貌变化 | 第25-30页 |
| ·基片表面三维形貌和表面粗糙度变化 | 第30-33页 |
| ·基片表面成分变化 | 第33-35页 |
| ·单晶MgO(100)抛光基片在不同湿度空气中的表面变化研究 | 第35-38页 |
| ·实验方案设计 | 第35页 |
| ·基片表面形貌变化 | 第35-36页 |
| ·基片表面三维形貌和表面粗糙度变化 | 第36-38页 |
| ·单晶MgO(100)抛光基片在不同温度空气中的表面变化研究 | 第38-41页 |
| ·实验方案设计 | 第38页 |
| ·基片表面形貌变化 | 第38-39页 |
| ·基片表面三维形貌和表面粗糙度变化 | 第39-41页 |
| ·不同表面加工质量的单晶MgO(100)抛光基片在空气中的表面变化研究 | 第41-45页 |
| ·实验方案设计 | 第41-42页 |
| ·基片表面形貌变化 | 第42-43页 |
| ·基片表面三维形貌和表面粗糙度变化 | 第43-44页 |
| ·基片表面反应活性分析 | 第44-45页 |
| ·不同晶面的单晶MgO抛光基片在空气中的表面变化研究 | 第45-50页 |
| ·实验方案设计 | 第45页 |
| ·基片表面形貌变化 | 第45-47页 |
| ·基片表面三维形貌和表面粗糙度变化 | 第47-48页 |
| ·基片表面反应活性分析 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 4 单晶MgO抛光基片表面吸附潮解反应分析 | 第51-60页 |
| ·单晶MgO(110)抛光基片在不同水覆盖率作用下的吸附反应 | 第51-53页 |
| ·在完全水覆盖率作用下的吸附反应 | 第52页 |
| ·在低水覆盖率作用下的吸附反应 | 第52-53页 |
| ·单晶MgO抛光基片表面晶体缺陷处的水吸附反应 | 第53-59页 |
| ·单晶MgO抛光基片表面晶体缺陷 | 第53-54页 |
| ·单晶MgO(110)抛光基片表面氧空位缺陷处的水吸附反应 | 第54页 |
| ·单晶MgO(100)抛光基片表面台阶缺陷处的水吸附反应 | 第54-57页 |
| ·单晶MgO抛光基片表面晶体缺陷处水吸附反应活性分析 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
