摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
前言 | 第9-11页 |
引言 | 第11-14页 |
第一章 甘草次酸衍生物的合成 | 第14-22页 |
第一节 仪器、材料及试剂 | 第15页 |
第二节 甘草次酸30位羧基的修饰 | 第15-17页 |
第三节 甘草次酸11位羰基的修饰 | 第17-19页 |
第四节 甘草次酸3位羟基的修饰 | 第19-21页 |
第五节 小结 | 第21-22页 |
第二章 甘草次酸衍生物的结构解析 | 第22-34页 |
第一节 紫外图谱解析 | 第22-25页 |
第二节 红外图谱解析 | 第25-28页 |
第三节 核磁共振图谱解析 | 第28-33页 |
第四节 小结 | 第33-34页 |
第三章 大孔吸附树脂技术在中药复方制剂中的应用 | 第34-76页 |
第一节 仪器、材料及试剂 | 第35页 |
第二节 检测条件的确定 | 第35-42页 |
第三节 洗脱条件考察 | 第42-46页 |
第四节 树脂型号的筛选 | 第46-51页 |
第五节 Seplite LX-66型大孔树脂吸附性能考察 | 第51-54页 |
第六节 树脂再生处理和老化评价标准的探索 | 第54-76页 |
总结与讨论 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-78页 |
文献综述 | 第78-88页 |
甘草次酸衍生物抗炎活性研究 | 第78-81页 |
大孔吸附树脂技术在中药制剂中的应用 | 第81-88页 |
致谢 | 第88-90页 |
公开发表的学术论文、专著及科研成果 | 第90-91页 |