前言 | 第1-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-20页 |
·天然气及其加工技术 | 第9-11页 |
·天然气的转化途径 | 第9-10页 |
·天然气制合成气的技术 | 第10-11页 |
·甲烷部分氧化反应机理 | 第11-14页 |
·燃烧—重整机理 | 第11-12页 |
·直接氧化机理 | 第12-13页 |
·其它观点 | 第13-14页 |
·分子计算科学在甲烷部分氧化过程研究中的应用 | 第14-18页 |
·分子计算科学 | 第14-15页 |
·量子力学计算 | 第15-16页 |
·密度泛函理论研究甲烷部分氧化反应机理 | 第16-18页 |
·本文的目的和意义 | 第18-20页 |
第二章 计算基本理论与方法 | 第20-27页 |
·密度泛函理论基本原理 | 第20-22页 |
·密度泛函理论基本公式 | 第20-21页 |
·交换相关能的近似 | 第21页 |
·总能的表达式 | 第21-22页 |
·DFT 方程的求解策略 | 第22-24页 |
·基组 | 第22-23页 |
·SCF 求解程序 | 第23页 |
·数值积分程序 | 第23页 |
·原子实处理 | 第23-24页 |
·空间截断 | 第24页 |
·表面模型分类 | 第24页 |
·基本计算内容 | 第24-27页 |
·结构优化 | 第24-25页 |
·过渡态搜寻 | 第25页 |
·Mulliken 布居数分析 | 第25-26页 |
·计算收敛准则 | 第26-27页 |
第三章 镍表面台阶结构对甲烷吸附及解离的影响 | 第27-49页 |
·计算模型 | 第28-29页 |
·单原子台阶表面模型 | 第28-29页 |
·甲烷及其它反应物种模型 | 第29页 |
·计算方法与设定 | 第29页 |
·计算条件设置 | 第29页 |
·相关计算公式 | 第29页 |
·CH_x 物种在Ni(211)表面的吸附研究 | 第29-37页 |
·Ni(211)表面的主要吸附位置 | 第29-30页 |
·CH_4 在Ni(211)表面的吸附 | 第30-31页 |
·CH_3 在Ni(211)表面的吸附 | 第31-32页 |
·CH_2 在Ni(211)表面的吸附 | 第32-34页 |
·CH 在Ni(211)表面的吸附 | 第34-35页 |
·C 原子在Ni(211)表面的吸附 | 第35-36页 |
·H 原子在Ni(211)表面的吸附 | 第36-37页 |
·小结 | 第37页 |
·Ni(211)中台阶结构对CH_4 解离过程的影响 | 第37-49页 |
·CH_4 的解离 | 第37-39页 |
·CH_3 的解离 | 第39-40页 |
·CH_2 的解离 | 第40-44页 |
·CH 的解离 | 第44-46页 |
·CO 的生成 | 第46-47页 |
·小结 | 第47-49页 |
第四章 镍表面吸附态氧原子对甲烷吸附及解离的影响 | 第49-69页 |
·计算模型 | 第50页 |
·计算方法与设定 | 第50-51页 |
·计算条件设置 | 第50页 |
·相关计算公式 | 第50-51页 |
·表面吸附O 原子对CHx 物种吸附影响的研究 | 第51-53页 |
·Ni(111)表面的主要吸附位置 | 第51-52页 |
·O 原子在Ni(111)表面的吸附 | 第52页 |
·表面吸附O 原子对CH_x 物种吸附的影响 | 第52页 |
·表面吸附CH_x 物种对O 原子吸附能的影响 | 第52-53页 |
·表面吸附O 原子对CH_x 物种反应的影响 | 第53-69页 |
·CH_3O 的形成与解离过程 | 第53-56页 |
·CH_2O 的形成与解离过程 | 第56-59页 |
·CHO 的形成与解离 | 第59-60页 |
·表面O 原子从CH_x 中夺H 过程 | 第60-66页 |
·反应路径分析 | 第66-69页 |
第五章 结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
附录 SCF 程序计算流程图 | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |