| 摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-33页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·真空电弧沉积技术 | 第11-21页 |
| ·发展过程 | 第11-12页 |
| ·工作原理 | 第12-13页 |
| ·工艺特点 | 第13-14页 |
| ·组织结构和性能 | 第14-16页 |
| ·控制工艺参数 | 第16-18页 |
| ·应用 | 第18-21页 |
| ·超硬薄膜 | 第21-27页 |
| ·超硬薄膜的概念 | 第21页 |
| ·超硬薄膜的分类 | 第21-23页 |
| ·纳米超硬膜的特性 | 第23-25页 |
| ·超硬薄膜的应用 | 第25页 |
| ·超硬薄膜研究现状和制备方法 | 第25-26页 |
| ·我国对纳米超硬薄膜的研究现状 | 第26-27页 |
| ·离子束辅助及其在薄膜制备中的应用 | 第27-29页 |
| ·离子束辅助沉积的特点 | 第27页 |
| ·离子束辅助沉积的作用 | 第27-28页 |
| ·离子束辅助沉积在薄膜制备中的应用 | 第28-29页 |
| ·ZrN薄膜的简介 | 第29-31页 |
| ·国内外研究进展及常见的制备ZrN膜方法 | 第29-31页 |
| ·ZrN膜的应用 | 第31页 |
| ·本论文的选题意义与论文创新点 | 第31-32页 |
| ·选题意义 | 第31-32页 |
| ·本论文创新点 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第二章 实验设备与及实验方法 | 第33-45页 |
| ·研究线路和方法 | 第33-34页 |
| ·研究方法 | 第33页 |
| ·研究所涉及和拟解决的关键问题 | 第33页 |
| ·工艺流程图 | 第33-34页 |
| ·本实验设备 | 第34-37页 |
| ·Bulat-6真空电弧沉积设备的结构 | 第34-35页 |
| ·Bulat-6真空电弧沉积设备工作原理 | 第35-37页 |
| ·工艺参数的选择 | 第37-41页 |
| ·常规条件下真空电弧沉积ZrN薄膜的工艺摸索 | 第37-38页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜 | 第38-39页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜 | 第39页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜 | 第39-40页 |
| ·离子束辅助对真空电弧沉积(Zr，Me)N多元膜的影响 | 第40-41页 |
| ·超硬膜的制备 | 第41-42页 |
| ·基片的选择 | 第41页 |
| ·本实验的镀前处理 | 第41-42页 |
| ·测试方法 | 第42-45页 |
| ·组织结构测试 | 第42-43页 |
| ·性能测试 | 第43-45页 |
| 第三章 真空电弧沉积ZrN薄膜实验结果及性能分析 | 第45-89页 |
| ·常规真空电弧沉积ZrN薄膜结果与性能分析 | 第45-50页 |
| ·常规真空电弧沉积ZrN薄膜形貌观测与分析 | 第45-46页 |
| ·常规真空电弧沉积ZrN薄膜的结构分析 | 第46-47页 |
| ·常规真空电弧沉积ZrN薄膜的显微硬度与结合力 | 第47-49页 |
| ·常规真空电弧沉积ZrN薄膜的耐磨性和孔隙率 | 第49-50页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜的结果与分析 | 第50-58页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜形貌观测与分析 | 第50-52页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜结构分析 | 第52-54页 |
| ·不同离子束束流条件下的真空电弧沉积ZrN薄膜的显微硬度 | 第54页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜的结合力 | 第54-55页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜的孔隙率 | 第55-56页 |
| ·不同离子束束流条件下真空电弧沉积ZrN薄膜的耐磨性 | 第56-58页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜试验结果与分析 | 第58-66页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜形貌观测分析 | 第58-59页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜结构分析 | 第59-61页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜显微硬度 | 第61-62页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜结合力 | 第62-63页 |
| ·不同离子束加速电压下真空电弧沉积ZrN薄膜孔隙率 | 第63-64页 |
| ·不同离子束加速电压条件下真空电弧沉积ZrN薄膜耐磨性 | 第64-66页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜结果与分析 | 第66-73页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜形貌观测与分析 | 第66-67页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜结构分析 | 第67-70页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜显微硬度 | 第70页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜的结合力 | 第70-71页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜孔隙率 | 第71-72页 |
| ·不同沉积温度条件下真空电弧沉积ZrN薄膜耐磨性 | 第72-73页 |
| ·真空电弧沉积(Zr，Me)N多元膜 | 第73-84页 |
| ·真空电弧沉积(Zr，Me)N多元膜形貌观测与分析 | 第74-78页 |
| ·真空电弧沉积(Zr，Me)N多元膜的XRD分析 | 第78-81页 |
| ·真空电弧沉积(Zr，Me)N薄膜的显微硬度 | 第81-82页 |
| ·真空电弧沉积(Zr，Ti)N薄膜的结合力 | 第82-83页 |
| ·真空电弧沉积(Zr，Me)N多元膜的耐磨性能 | 第83-84页 |
| ·离子束辅助真空电弧沉积ZrN系薄膜机理探讨 | 第84-86页 |
| ·本章小节 | 第86-89页 |
| 第四章 结论 | 第89-90页 |
| 展望 | 第90-91页 |
| 本文的特色与创新之处 | 第91-92页 |
| 对进一步研究的建议 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-101页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第101-102页 |
| 独创性声明 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
