第一章 绪论 | 第1-31页 |
·引言 | 第12-13页 |
·光栅的种类和应用 | 第13-14页 |
·光栅的基本性质 | 第14页 |
·刻划光栅的现状 | 第14-16页 |
·全息—离子束刻蚀光栅的发展概况 | 第16-18页 |
·光栅理论的发展历史及现状简述 | 第18-21页 |
·本文的主要工作 | 第21-31页 |
第二章 标量衍射理论 | 第31-42页 |
·引言 | 第31页 |
·惠更斯—菲涅耳原理 | 第31-32页 |
·基尔霍夫公式与菲涅耳近似 | 第32-34页 |
·夫朗和费近似下的衍射积分 | 第34页 |
·入射光场复振幅分布函数的表示方法 | 第34-36页 |
·付里叶变换基本知识 | 第36-37页 |
·衍射光栅与付里叶变换 | 第37-40页 |
·小结 | 第40-42页 |
第三章 衍射光栅电磁场理论基础 | 第42-54页 |
·引言 | 第42页 |
·Rayleigh展开式与衍射效率 | 第42-44页 |
·衍射光栅的两种反常现象 | 第44-45页 |
·光栅电磁场理论中的基本原理 | 第45-47页 |
·严格光栅理论常用方法的基本思想 | 第47-48页 |
·小结 | 第48-54页 |
第四章 衍射光栅色散理论(Ⅰ) | 第54-70页 |
·引言 | 第54页 |
·一维光栅角色散公式的完整解析形式 | 第54-58页 |
·衍射级次分布 | 第58-61页 |
·第一类角色散与入射方位角的关系 | 第61-62页 |
·第二类角色散与锥面衍射 | 第62-64页 |
·第二类角色散及其极值条件 | 第64-67页 |
·小结 | 第67-70页 |
第五章 衍射光栅色散理论(Ⅱ) | 第70-87页 |
·引言 | 第70-72页 |
·正交光栅角色散公式 | 第72-75页 |
·衍射级次分布 | 第75-77页 |
·两类角色散数值分析 | 第77-81页 |
·交叉光栅角色散公式的完整解析形式 | 第81-84页 |
·小结 | 第84-87页 |
第六章 矢量衍射理论在光谱仪器中的应用 | 第87-101页 |
·引言 | 第87-88页 |
·物理模型及理论分析 | 第88-95页 |
·数值分析 | 第95-99页 |
·小结 | 第99-101页 |
第七章 光学头光栅的设计与研制 | 第101-117页 |
·引言 | 第101-102页 |
·矩形光栅衍射效率的一般表达式及其缺级现象 | 第102-107页 |
·基于标量衍射理论的设计方法 | 第107-108页 |
·衍射效率的矢量衍射理论分析 | 第108-109页 |
·纵向和横向加工误差的互补性 | 第109-112页 |
·光学头光栅的研制工艺 | 第112-115页 |
·小结 | 第115-117页 |
第八章 激光光栅与计量光栅的刻划工艺 | 第117-137页 |
·引言 | 第117-118页 |
·刻划光栅的物理模型与分析 | 第118-120页 |
·10.6μm激光器一级输出高衍射效率闪耀光栅的研制 | 第120-123页 |
·9.77μm激光器零级耦合输出选频振荡光栅的研制 | 第123-127页 |
·计量光栅的制作工艺 | 第127-134页 |
·小结 | 第134-137页 |
第九章 全息离子束刻蚀光栅制作中的若干问题 | 第137-155页 |
·引言 | 第137页 |
·平面全息光栅的制作原理 | 第137-140页 |
·两种全息曝光系统特点分析 | 第140-141页 |
·光栅常数的精确控制方法 | 第141-146页 |
·全息曝光与显影过程分析 | 第146-150页 |
·离子束刻蚀 | 第150-152页 |
·小结 | 第152-155页 |
第十章 光栅衍射效率的检验 | 第155-168页 |
·引言 | 第155-156页 |
·光栅衍射效率的手动检验设备 | 第156-157页 |
·平面光栅衍射效率连续扫描测试原理 | 第157-159页 |
·已有光栅效率自动检验仪设计方案分析 | 第159-164页 |
·一种新的全自动光栅衍射效率检验仪设计方案 | 第164-166页 |
·小结 | 第166-168页 |
第十一章 总结与展望 | 第168-170页 |
攻读博士学位期间发表论文和承担科研项目情况 | 第170-172页 |
致谢 | 第172-173页 |
长春光学精密机械与物理研究所博士学位论文原创性声明 | 第173-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-173页 |