| 摘要(中、英文) | 第1-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-9页 |
| 第二章 钙钛矿锰氧化物材料的性质及机理 | 第9-28页 |
| ·磁电阻效应 | 第9-12页 |
| ·正常磁电阻(OMR)效应 | 第9页 |
| ·多层膜和颗粒膜中的巨磁电阻(GMR)效应 | 第9-10页 |
| ·钙钛矿锰氧化物中的特大磁电阻(CMR)效应 | 第10-12页 |
| ·钙钛矿锰氧化合物的结构及输运性质 | 第12-19页 |
| ·晶体结构 | 第12-14页 |
| ·磁结构 | 第14-17页 |
| ·电输运性质及电磁相图 | 第17-19页 |
| ·钙钛矿锰氧化物特大磁电阻效应的物理机制 | 第19-24页 |
| ·双交换作用机制 | 第19-21页 |
| ·电子结构和Jahn-Teller畸变 | 第21-23页 |
| ·小极化子理论 | 第23-24页 |
| ·影响CMR效应的几个因素 | 第24-28页 |
| ·工艺制备对薄膜材料的CMR的影响 | 第24-26页 |
| ·稀土和碱土离子半径对CMR的影响 | 第26-27页 |
| ·外加等静压对CMR特性的影响 | 第27-28页 |
| 第三章 锰氧化合物材料的制备和结构分析 | 第28-46页 |
| ·钙钛矿锰氧化物块体的制备方法 | 第28-30页 |
| ·固相反应法 | 第28-29页 |
| ·悬浮区熔法(float-zone method) | 第29-30页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第30页 |
| ·薄膜材料的制备 | 第30-35页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第31-33页 |
| ·磁控溅射法 | 第33-34页 |
| ·溶胶-凝胶薄膜制备法 | 第34-35页 |
| ·双掺杂(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列锰氧化物材料的制备 | 第35-38页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列块体靶的制备 | 第35-36页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列薄膜的制备 | 第36-38页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列块状晶体和薄膜的结构分析 | 第38-46页 |
| ·X射线分析理论 | 第38-39页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3粉体的结构分析 | 第39-41页 |
| ·晶格常数的计算 | 第41-43页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列薄膜的X射线分析 | 第43-46页 |
| 第四章 (La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列薄膜系列薄膜输运特性 | 第46-65页 |
| ·薄膜电极 | 第46页 |
| ·低温控温系统 | 第46页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列薄膜的电输运 | 第46-55页 |
| ·A位离子半径对材料转变温度Tp的影响 | 第48-49页 |
| ·低温范围薄膜的输运特性讨论 | 第49-52页 |
| ·高温范围薄膜输运机制讨论 | 第52-55页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列薄膜的电致相变 | 第55-59页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3(x=0，1)薄膜的电致相变 | 第55-57页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3(x=1/3)薄膜的非线性输运特性 | 第57-59页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(2/3)3Sr_(1/3)MnO_3系列薄膜光致相变 | 第59-62页 |
| ·光强及偏振光对Pr_(2/3)Sr_(1/3)MnO_3薄膜相变的影响 | 第59-61页 |
| ·薄膜激光反射率与光致相变 | 第61-62页 |
| ·La_(2/3)Sr_(1/3)MnO_3薄膜的偏流与激光反射率特性的研究 | 第62-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
