纳米TiO2光纤涂层的设计及其光催化性能的初探
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-27页 |
| 2．1 纳米材料和纳米技术 | 第9页 |
| 2．2 纳米TiO_2的性能 | 第9-10页 |
| 2．3 纳米TiO_2光催化的基本原理 | 第10-11页 |
| 2．4 影响光催化降解效果的因素 | 第11-14页 |
| 2．4．1 光源的影响 | 第12页 |
| 2．4．2 催化剂颗粒的超细化 | 第12-14页 |
| 2．5 纳米TiO_2的应用 | 第14-17页 |
| 2．5．1 光催化降解有机污染物 | 第14页 |
| 2．5．2 氮氧化物的降解 | 第14-15页 |
| 2．5．3 除臭 | 第15页 |
| 2．5．4 水处理 | 第15-16页 |
| 2．5．5 在表面工程中的应用 | 第16-17页 |
| 2．6 光催化反应器的概述 | 第17-21页 |
| 2．6．1 反应器的发展 | 第17-18页 |
| 2．6．2 光纤反应器的理论研究 | 第18-20页 |
| 2．6．3 光纤反应器研究现状 | 第20-21页 |
| 2．7 TiO_2催化剂固定载体及固定化方法 | 第21-25页 |
| 2．7．1 固定载体的选择 | 第22页 |
| 2．7．2 载体的主要作用 | 第22页 |
| 2．7．3 TiO_2涂膜的方法 | 第22-25页 |
| 2．8 今后发展方向 | 第25-26页 |
| 2．9 问题得提出 | 第26-27页 |
| 第三章 实验方案设计与试验方法 | 第27-33页 |
| 3．1 浸渍涂覆法 | 第27-32页 |
| 3．1．1 实验原料 | 第27页 |
| 3．1．2 实验仪器 | 第27-28页 |
| 3．1．3 涂层的制备 | 第28-29页 |
| 3．1．4 实验流程 | 第29页 |
| 3．1．5 性能测试 | 第29-30页 |
| 3．1．6 实验方案 | 第30-32页 |
| 3．3 降解实验 | 第32-33页 |
| 第四章 浸渍法所得涂层的性能 | 第33-52页 |
| 4．1 浆体分散方法对涂层的影响 | 第33-35页 |
| 4．2 分散剂的加入对涂层的影响 | 第35-39页 |
| 4．3 涂层厚度的控制因素 | 第39-45页 |
| 4．3．1 固相含量对涂层厚度的影响 | 第39-40页 |
| 4．3．2 粘结剂的加入量对涂层厚度及质量的影响 | 第40-43页 |
| 4．3．3 涂覆次数对厚度及涂层质量的影响 | 第43-45页 |
| 4．4 固相含量对涂层硬度的影响 | 第45-47页 |
| 4．5 涂层开裂分析 | 第47-50页 |
| 4．5．1 处理制度 | 第47-48页 |
| 4．5．2 料浆分散状态的影响 | 第48-50页 |
| 4．5．3 涂层应力引起的开裂分析 | 第50页 |
| 4．6 甲基橙溶液的降解效果 | 第50-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 硕士期间发表论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
