光氯化合成ClCH2SiCl3的研究
| 第一章 前言 | 第1-12页 |
| 1．1 有机硅工业的历史及发展 | 第7-8页 |
| 1．2 有机硅的性能及用途 | 第8-9页 |
| 1．3 有机硅单体的生产及应用 | 第9-10页 |
| 1．4 α-氯代烃基硅烷的研究前景 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-20页 |
| 第三章 试验部分 | 第20-25页 |
| 3．1 基本原理 | 第20-21页 |
| 3．2 原料规格 | 第21-22页 |
| 3．3 试验流程图 | 第22-23页 |
| 3．4 流程叙述 | 第23页 |
| 3．5 分析测试方法 | 第23-24页 |
| 3．6 工艺指标计算 | 第24-25页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第25-59页 |
| 4．1 反应温度 | 第25-26页 |
| 4．2 终点反应温度的确定 | 第26-27页 |
| 4．3 物料分离参数 | 第27-29页 |
| 4．4 反应器材质及壁厚的影响 | 第29-32页 |
| 4．5 光源强度对反应速率的影响 | 第32-38页 |
| 4．6 影响吸收光谱强度的因素 | 第38-42页 |
| 4．7 波函数与跃迁几率 | 第42-46页 |
| 4．8 光源光谱对反应的影响 | 第46-49页 |
| 4．9 氯气通量对反应速率的影响 | 第49-52页 |
| 4．10 反应时间的影响 | 第52-53页 |
| 4．11 液相法／气相法的对比 | 第53-54页 |
| 4．12 连续法／间歇法的比较 | 第54-55页 |
| 4．13 转化率、选择性及收率的计算 | 第55-56页 |
| 4．14 中试放大研究 | 第56-59页 |
| 第五章结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 附录 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
