KDP晶体潮解抛光的实验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| ·课题来源 | 第8页 |
| ·课题研究的目的及意义 | 第8-9页 |
| ·KDP晶体超精密加工技术研究现状 | 第9-13页 |
| ·单点金刚石切削加工技术(SPDT) | 第9-11页 |
| ·超精密磨削技术 | 第11-12页 |
| ·磁流变抛光技术(MRF) | 第12-13页 |
| ·KDP晶体潮解抛光的研究现状 | 第13页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 KDP晶体潮解抛光机理分析及实验方案设计 | 第14-25页 |
| ·KDP晶体材料特性的分析 | 第14-18页 |
| ·KDP晶体的结构 | 第14-16页 |
| ·KDP晶体的性质 | 第16-18页 |
| ·KDP晶体潮解抛光机理分析 | 第18-21页 |
| ·KDP晶体潮解机理分析 | 第18-19页 |
| ·KDP晶体潮解抛光材料去除机理 | 第19-21页 |
| ·KDP晶体潮解抛光实验研究方案设计 | 第21-22页 |
| ·抛光液的配方研究 | 第21页 |
| ·影响抛光质量的各个因素的研究 | 第21-22页 |
| ·实验设备和实验材料 | 第22-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 KDP晶体潮解抛光液配方研究 | 第25-36页 |
| ·抛光液基本成分的选择 | 第25-26页 |
| ·表面活性剂的选择 | 第26-32页 |
| ·表面活性剂概述 | 第26-28页 |
| ·表面活性剂的亲水亲油平衡性 | 第28页 |
| ·表面活性剂在溶液中的性质 | 第28-30页 |
| ·表面活性剂的实验 | 第30-32页 |
| ·KDP晶体潮解抛光液的配制实验 | 第32-35页 |
| ·实验条件及安排 | 第32页 |
| ·水与乙醇的比例选择实验 | 第32-33页 |
| ·表面活性剂的浓度选择实验 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 KDP晶体潮解抛光的工艺实验研究 | 第36-48页 |
| ·影响抛光效果的因素 | 第36-37页 |
| ·工艺参数对抛光材料去除率的影响 | 第37-41页 |
| ·抛光压力对抛光材料去除率的影响 | 第37-38页 |
| ·抛光液流量对抛光材料去除率的影响 | 第38-39页 |
| ·抛光盘转速对抛光材料去除率的影响 | 第39-40页 |
| ·抛光各阶段去除率的变化 | 第40-41页 |
| ·工艺参数对抛光表面粗糙度的影响 | 第41-45页 |
| ·抛光压力对抛光表面粗糙度的影响 | 第41-42页 |
| ·抛光液流量对抛光表面粗糙度的影响 | 第42-43页 |
| ·抛光盘转速对抛光表面粗糙度的影响 | 第43-44页 |
| ·抛光时间对抛光表面粗糙度的影响 | 第44-45页 |
| ·抛光垫的修整对抛光效果的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
