口腔材料表面氮化锆薄膜制备工艺与性能
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景 | 第9页 |
| ·口腔金属材料现状与发展 | 第9-14页 |
| ·口腔金属材料 | 第9-11页 |
| ·口腔金属的腐蚀和防护 | 第11-12页 |
| ·口腔金属对人体存在的危害 | 第12-13页 |
| ·口腔金属的发展方向 | 第13-14页 |
| ·氮化锆薄膜制备方法 | 第14-18页 |
| ·化学气相沉积 | 第14-15页 |
| ·离子辅助沉积 | 第15页 |
| ·溅射镀膜 | 第15-18页 |
| ·本课题的目的和意义 | 第18-20页 |
| 2 实验设备与分析测试方法 | 第20-25页 |
| ·实验设备 | 第20-21页 |
| ·真空获得 | 第20页 |
| ·气路原理 | 第20-21页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·基体材料及预处理 | 第21页 |
| ·靶材和反应气体 | 第21页 |
| ·分析测试手段 | 第21-24页 |
| ·原子力显微镜 | 第21-22页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第22-23页 |
| ·X射线衍射 | 第23页 |
| ·动态超显微硬度计 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 实验工艺与实验方案 | 第25-30页 |
| ·氮化锆薄膜镀膜工艺流程 | 第25页 |
| ·氮化锆薄膜的制备方案 | 第25-29页 |
| ·直流溅射氮化锆薄膜的制备方案 | 第25-28页 |
| ·射频溅射氮化锆薄膜的制备方案 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 4 实验结果与分析 | 第30-64页 |
| ·氮化锆薄膜颜色 | 第30-36页 |
| ·氮化锆薄膜颜色变化的物理解释 | 第30页 |
| ·直流溅射条件对氮化锆薄膜颜色的影响 | 第30-35页 |
| ·射频溅射条件对氮化锆薄膜颜色的影响 | 第35-36页 |
| ·氮化锆薄膜显微硬度 | 第36-47页 |
| ·直流溅射氮化锆显微硬度 | 第36-42页 |
| ·射频溅射氮化锆显微硬度 | 第42-47页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第47-56页 |
| ·不同氮气分压直流溅射氮化锆薄膜AFM分析 | 第48-51页 |
| ·不同溅射功率直流溅射氮化锆薄膜AFM分析 | 第51-54页 |
| ·不同溅射时间直流溅射氮化锆薄膜AFM分析 | 第54-56页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第56-59页 |
| ·不同氮气分压直流溅射氮化锆薄膜SEM分析 | 第56-57页 |
| ·不同溅射功率直流溅射氮化锆薄膜SEM分析 | 第57-58页 |
| ·不同溅射时间直流溅射氮化锆薄膜SEM分析 | 第58-59页 |
| ·X射线衍射分析 | 第59-63页 |
| ·直流溅射氮化锆X射线衍射分析 | 第59-61页 |
| ·射频溅射氮化锆X射线衍射分析 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 5 结论 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
