| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·概述 | 第9-10页 |
| ·超精密加工技术及其发展现状 | 第10页 |
| ·光学材料的应用及其超精密加工方法 | 第10-11页 |
| ·光学材料超精密抛光技术概论 | 第11-16页 |
| ·常见的超精密抛光方法 | 第12-13页 |
| ·化学机械抛光机理 | 第13页 |
| ·影响化学机械抛光的因素 | 第13-16页 |
| ·超精密CMP及设备研究现状 | 第16-20页 |
| ·CMP研究现状 | 第16-18页 |
| ·超精密CMP设备发展现状 | 第18-20页 |
| ·存在的问题 | 第20页 |
| ·课题的提出及主要研究工作 | 第20-23页 |
| ·论文研究的背景及意义 | 第20-21页 |
| ·论文采取的总体研究方案及研究目标 | 第21页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 下摆式抛光机虚拟设计方案及研究策略 | 第23-29页 |
| ·下摆式CMP抛光机总体方案设计 | 第23-25页 |
| ·下摆式CMP抛光机总体结构 | 第23-24页 |
| ·下摆式CMP抛光机工作原理 | 第24-25页 |
| ·下摆式CMP抛光机虚拟仿真方案 | 第25-28页 |
| ·研究工作的理论假设 | 第25页 |
| ·研究工作的软件支撑平台 | 第25-27页 |
| ·技术路线 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 抛光过程中应力场及数学模型分析 | 第29-45页 |
| ·抛光区应力场分析 | 第29-38页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·单颗粒磨粒切削光学材料的磨屑形成过程 | 第29-31页 |
| ·多磨粒磨削光学材料的磨屑形成过程 | 第31-32页 |
| ·磨粒作用材料表面应力分析 | 第32-38页 |
| ·分析结果 | 第38页 |
| ·抛光过程的数学模型分析 | 第38-44页 |
| ·Preston方程 | 第39页 |
| ·抛光机的材料去除方程 | 第39-41页 |
| ·材料去除的数值分析 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 下摆式抛光机的虚拟设计 | 第45-59页 |
| ·概述 | 第45页 |
| ·虚拟制造技术的内涵与分类 | 第45-48页 |
| ·虚拟制造技术的定义 | 第45-46页 |
| ·虚拟制造与实际制造的关系 | 第46-47页 |
| ·虚拟制造技术的分类 | 第47-48页 |
| ·虚拟样机技术 | 第48页 |
| ·我国VM技术发展现状 | 第48-49页 |
| ·我国VM技术发展存在的不足 | 第49-50页 |
| ·下摆式抛光机的虚拟设计 | 第50-57页 |
| ·机械部分设计 | 第50-53页 |
| ·电控系统及供液系统设计 | 第53页 |
| ·空间设计及零部件对称化设计 | 第53-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 下摆式抛光机的动态特性研究及优化 | 第59-73页 |
| ·静动态特性分析研究内容 | 第59-60页 |
| ·静态特性研究内容 | 第59页 |
| ·动态特性研究内容 | 第59-60页 |
| ·模态分析理论 | 第60-66页 |
| ·模态分析方法 | 第60页 |
| ·多自由振动系统微分方程 | 第60-63页 |
| ·多自由度振动系统的计算机解法 | 第63-66页 |
| ·有限元法 | 第66-68页 |
| ·有限元法的基本思想及其应用 | 第67页 |
| ·有限元法分析步骤 | 第67-68页 |
| ·ANSYS模态分析 | 第68-70页 |
| ·有限元模型的建立 | 第68页 |
| ·边界条件的确定 | 第68页 |
| ·模态分析结果 | 第68-70页 |
| ·分析结果讨论 | 第70页 |
| ·机架的优化 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 总结与展望 | 第73-75页 |
| ·本论文工作总结 | 第73页 |
| ·有待进一步解决的关键技术问题 | 第73-74页 |
| ·研究展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间公开发表的学术论文目录 | 第84-85页 |
| 附录B 攻读硕士学位期间完成的科研工作 | 第85-86页 |
| 附录C GXBPJ-70抛光机加工件及标准件明细表 | 第86-90页 |