| 中文提要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| ·三阶光学非线性概论 | 第10-11页 |
| ·三阶光学非线性测量技术简介 | 第11-14页 |
| ·测量材料表面非线性技术的研究现状 | 第14-16页 |
| ·本论文研究的意义及主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 Z-扫描技术和4 f 相位相干成像技术 | 第17-33页 |
| 引言 | 第17页 |
| ·Z-扫描技术 | 第17-23页 |
| ·Z-扫描技术的理论模型 | 第17-21页 |
| ·有关Z-扫描技术的计算和公式 | 第21-23页 |
| ·4 f 相位相干成像技术 | 第23-31页 |
| ·泽尼克相位相衬原理 | 第24-25页 |
| ·4 f 相位相干成像技术基本理论原理 | 第25-29页 |
| ·4 f 相位相干成像技术同时测量材料的非线性吸收与折射 | 第29-31页 |
| ·比较Z-扫描技术与4 f 相位相干成像技术 | 第31-32页 |
| 小结 | 第32-33页 |
| 第三章 测量材料表面光学非线性 | 第33-45页 |
| 引言 | 第33页 |
| ·反射Z-扫描技术 | 第33-38页 |
| ·反射4 f 相位相干成像技术 | 第38-44页 |
| ·反射4 f 相位相干成像技术理论模型 | 第38-41页 |
| ·反射4 f 相位相干成像技术的模拟结果 | 第41-44页 |
| 小结 | 第44-45页 |
| 第四章 反射4 f 相位相干成像技术的理论计算及其优化设计 | 第45-54页 |
| 引言 | 第45页 |
| ·各参数对反射4 f 相位相干成像技术的影响 | 第45-49页 |
| ·入射角度对ΔT 的影响及优化设计 | 第49-53页 |
| 小结 | 第53-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |