内容提要 | 第1-12页 |
第一章 绪论 | 第12-33页 |
·金刚石的结构、性质和分类 | 第12-15页 |
·金刚石的结构 | 第12页 |
·金刚石分类 | 第12-14页 |
·金刚石的性质和用途 | 第14-15页 |
·大尺寸金刚石单晶的合成简史和研究现状 | 第15-17页 |
·金刚石合成的溶剂理论 | 第17-26页 |
·纯碳素体系中的石墨和金刚石的相平衡 | 第18-19页 |
·溶剂-碳素体系中的石墨和金刚石的平衡 | 第19-21页 |
·V 字型金刚石生长区 | 第21-22页 |
·溶剂法中石墨转化为金刚石的驱动力 | 第22-26页 |
·大尺寸金刚石单晶合成的关键技术-温度梯度法 | 第26-30页 |
·高温高压技术 | 第26-27页 |
·温度梯度法 | 第27-30页 |
·选题意义及主要研究内容 | 第30-33页 |
·选题意义 | 第30-31页 |
·研究内容 | 第31-33页 |
第二章 高压设备的高精密化控制 | 第33-44页 |
·引言 | 第33页 |
·合成用高温高压设备简介 | 第33-36页 |
·压力控制系统 | 第36-37页 |
·温度控制系统 | 第37-39页 |
·压力和温度的标定 | 第39-44页 |
·温度标定 | 第39-42页 |
·压力标定 | 第42-44页 |
第三章 大尺寸金刚石单晶生长条件稳定性问题的研究 | 第44-56页 |
·引言 | 第44页 |
·合成腔体内材料的稳定性 | 第44-47页 |
·合成腔体内材料的选择原则 | 第45页 |
·叶蜡石的稳定性 | 第45-46页 |
·石墨管的稳定性 | 第46-47页 |
·石墨管的稳定性 | 第47-53页 |
·两种石墨管电压稳定性的比较 | 第47-50页 |
·两种石墨管温度稳定性的比较 | 第50-53页 |
·两种加热源的晶体生长实验 | 第53-55页 |
·高纯石墨管的晶体生长实验 | 第53-54页 |
·普通石墨管的晶体生长实验 | 第54-55页 |
·本章小节 | 第55-56页 |
第四章 塔状晶体合成及机理分析 | 第56-72页 |
·引言 | 第56-57页 |
·高径比与合成温度及晶体品质的关系 | 第57-63页 |
·低温晶体的高径比 | 第57-59页 |
·中温晶体的高径比 | 第59-60页 |
·高温晶体的高径比 | 第60-61页 |
·高径比与合成温度和晶体品质的关系 | 第61-63页 |
·“塔状”晶体的合成 | 第63-66页 |
·A 碳源生长“塔状”晶体 | 第63-64页 |
·B 碳源生长“塔状”晶体 | 第64-66页 |
·小结 | 第66页 |
·碳素扩散场对塔状晶体生长的影响 | 第66-69页 |
·扩散场对晶体品质的影响 | 第66-67页 |
·有限元法(FEM)的应用 | 第67-68页 |
·两种碳源体系触媒中的碳素扩散场 | 第68页 |
·结果与讨论 | 第68-69页 |
·大尺寸金刚石单晶的高指数晶面 | 第69-70页 |
·常见的高指数晶面 | 第69-70页 |
·高指数晶面与合成温度的关系 | 第70页 |
·本章小结 | 第70-72页 |
第五章 优质克拉级金刚石大单晶的高温高压合成 | 第72-84页 |
·引言 | 第72页 |
·优质克拉级金刚石大单晶生长的技术要求 | 第72-74页 |
·优质克拉级金刚石大单晶的特点 | 第72-73页 |
·优质克拉级金刚石大单晶生长的技术要求 | 第73-74页 |
·优质克拉级金刚石大单晶的生长 | 第74-79页 |
·a 腔体生长金刚石单晶 | 第74-76页 |
·b 腔体生长金刚石单晶 | 第76-78页 |
·优质克拉级金刚石单晶的生长速度 | 第78-79页 |
·优质克拉级金刚石大单晶的应用 | 第79-83页 |
·超高压领域的应用 | 第79-80页 |
·钻石行业的应用 | 第80-82页 |
·小结 | 第82-83页 |
·本章小结 | 第83-84页 |
第六章 掺硼大尺寸金刚石单晶的合成及机理研究 | 第84-100页 |
·引言 | 第84-85页 |
·硼元素的性质 | 第85-91页 |
·硼的来源 | 第85-86页 |
·硼的电子结构 | 第86页 |
·单质硼的性质和结构 | 第86-91页 |
·掺硼金刚石单晶的晶体颜色 | 第91-95页 |
·低温{100}晶向晶体颜色分布 | 第91-93页 |
·高温{100}晶向晶体颜色分布 | 第93-95页 |
·结果与讨论 | 第95页 |
·掺硼金刚石单晶的生长缺陷问题 | 第95-99页 |
·硼掺杂对晶体表面的影响 | 第96-97页 |
·掺硼和未掺硼金刚石的生长缺陷对比 | 第97-98页 |
·结果与讨论 | 第98-99页 |
·优质克拉级掺硼金刚石单晶的合成及应用 | 第99页 |
·本章小结 | 第99-100页 |
第七章 掺硼宝石级金刚石的拉曼光谱和 电学性质研究 | 第100-109页 |
·引言 | 第100页 |
·掺硼金刚石的拉曼光谱测量 | 第100-103页 |
·拉曼散射的产生 | 第100-101页 |
·掺硼金刚石的拉曼光谱 | 第101-103页 |
·结果与讨论 | 第103页 |
·掺硼金刚石的电学性质测量 | 第103-108页 |
·半导体简介 | 第103-104页 |
·测量方法简介 | 第104-105页 |
·霍尔系数测量 | 第105-106页 |
·常温载流子浓度测量 | 第106-107页 |
·载流子迁移率测量 | 第107-108页 |
·本章小结 | 第108-109页 |
第八章 结论与展望 | 第109-111页 |
·结论 | 第109页 |
·展望 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-123页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第123-126页 |
作者简历 | 第126-127页 |
中文摘要 | 第127-128页 |
英文摘要 | 第128-129页 |