| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-30页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 有机污染物的环境污染 | 第13-19页 |
| 1.2.1 多环芳烃的来源和性质 | 第14-16页 |
| 1.2.2 工业废水的来源和性质 | 第16-19页 |
| 1.3 水处理工艺对有机污染物处理现状 | 第19-22页 |
| 1.3.1 多相光催化氧化技术概况 | 第19-20页 |
| 1.3.2 传统的光催化氧化技术 | 第20-21页 |
| 1.3.3 提高传统光催化剂性能的方法 | 第21-22页 |
| 1.4 新型光催化剂和技术的优势 | 第22-28页 |
| 1.4.1 金属有机框架材料在光催化机理的研究 | 第22-23页 |
| 1.4.2 目前提高金属有机框架材料光催化剂性能的策略 | 第23-27页 |
| 1.4.3 给电子基团调控光催化性能的可行性 | 第27-28页 |
| 1.5 本文研究的目的、意义和主要内容 | 第28-30页 |
| 1.5.1 目的和意义 | 第28页 |
| 1.5.2 主要内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验材料和方法 | 第30-42页 |
| 2.1 化学试剂 | 第30-31页 |
| 2.2 常用仪器设备 | 第31-32页 |
| 2.3 实验装置和方法 | 第32-34页 |
| 2.3.1 光催化反应器 | 第32-33页 |
| 2.3.2 实验步骤 | 第33-34页 |
| 2.4 分析方法 | 第34-42页 |
| 2.4.1 光反应器光辐射强度的测定 | 第34页 |
| 2.4.2 光催化剂表征分析 | 第34-39页 |
| 2.4.3 菲的前处理 | 第39页 |
| 2.4.4 菲的测定 | 第39页 |
| 2.4.5 紫外可见分光光度计分析 | 第39-40页 |
| 2.4.6 亚甲基蓝光催化裂解产物的前处理及分析 | 第40页 |
| 2.4.7 TOC分析仪测定废水中的总有机碳 | 第40页 |
| 2.4.8 三维荧光分析测定废水中的有机物质 | 第40-41页 |
| 2.4.9 电子顺磁共振表征分析光催化机理 | 第41页 |
| 2.4.10 实验数据分析 | 第41-42页 |
| 第三章 给电子基团调控MOFs光催化降解水中的菲 | 第42-56页 |
| 3.1 引言 | 第42-43页 |
| 3.2 实验部分 | 第43-45页 |
| 3.2.1 MIL-101(Fe)-X的合成 | 第43-44页 |
| 3.2.2 UIO-66-X的合成 | 第44-45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-55页 |
| 3.3.1 IR表征 | 第45页 |
| 3.3.2 XRD表征 | 第45-46页 |
| 3.3.3 Sbet表征 | 第46-47页 |
| 3.3.4 紫外可见光漫反射表征 | 第47-49页 |
| 3.3.5 光催化降解菲 | 第49-52页 |
| 3.3.6 两个系列MOFs的稳定性分析 | 第52-54页 |
| 3.3.7 给电子基团调控机理分析 | 第54-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 -CN桥连Cu(Ⅰ)聚合物光催化剂的原位合成和光催化机理 | 第56-75页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 实验部分 | 第56-59页 |
| 4.2.1 [Cu(L)_2·(H_2O)_2·(NO_3)_2]的合成 | 第57页 |
| 4.2.2 配位聚合物[Cu(L)_2·(CN)]_n的合成 | 第57页 |
| 4.2.3 UIO-66-NH_2的合成 | 第57页 |
| 4.2.4 X-射线晶体学分析测试 | 第57-59页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第59-74页 |
| 4.3.1 证明[Cu(L)_2·(CN)]_n中Cu(Ⅰ)的存在 | 第59-60页 |
| 4.3.2 X-射线单晶衍射分析[Cu(L)_2·(CN)]_n的结构 | 第60-63页 |
| 4.3.3 [Cu(L)_2·(CN)]_n的原位合成机理 | 第63-65页 |
| 4.3.4 [Cu(L)_2·(CN)]_n的光电性质 | 第65-67页 |
| 4.3.5 [Cu(L)_2·(CN)]_n光催化降解MB的性能 | 第67-70页 |
| 4.3.6 [Cu(L)_2·(CN)]_n光催化剂的稳定性分析 | 第70-71页 |
| 4.3.7 [Cu(L)_2·(CN)]_n的光催化机理 | 第71-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 -CN桥连Cu(Ⅰ)/Cu(Ⅱ)无机配位聚合物光催化剂的原位合成和光催化性能 | 第75-96页 |
| 5.1 引言 | 第75-76页 |
| 5.2 实验部分 | 第76-78页 |
| 5.2.1 无机配位聚合物{[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n的原位合成 | 第76页 |
| 5.2.2 无机配位聚合物{[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n量子片的合成 | 第76页 |
| 5.2.3 MoS_2量子片的合成 | 第76-77页 |
| 5.2.4 X-射线晶体学分析测试 | 第77-78页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第78-95页 |
| 5.3.1 证明{[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n中Cu(Ⅰ)/Cu(II)和-CN的存在 | 第78-80页 |
| 5.3.2 X-射线单晶衍射分析{[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n的结构 | 第80-83页 |
| 5.3.3 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n的光电性质 | 第83-84页 |
| 5.3.4 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n光催化降解MB的性能 | 第84-88页 |
| 5.3.5 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n量子片的制备 | 第88-90页 |
| 5.3.6 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n量子片的光催化降解MB的性能 | 第90-91页 |
| 5.3.7 无机离子对{[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n量子片光催化降解MB的影响 | 第91-94页 |
| 5.3.8 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n光催化剂的稳定性分析 | 第94-95页 |
| 5.4 本章小结 | 第95-96页 |
| 第六章 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n量子片光催化降解工业焦化废水原水和生化出水中的有机物 | 第96-109页 |
| 6.1 引言 | 第96页 |
| 6.2 工业焦化废水和经生化处理后的出水的来源和组分分析 | 第96-97页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第97-108页 |
| 6.3.1 光催化降解焦化废水原水中的有机物 | 第97-101页 |
| 6.3.2 光催化降解生化处理后焦化废水中的有机物 | 第101-104页 |
| 6.3.3 三维荧光分析有机组分的变化 | 第104-107页 |
| 6.3.4 {[Cu~(Ⅱ)(H_2O)_4][Cu~(Ⅰ)_4(CN)_6]}_n光催化生化出水的稳定性分析 | 第107-108页 |
| 6.4 本章小结 | 第108-109页 |
| 结论与展望 | 第109-112页 |
| 参考文献 | 第112-128页 |
| 附录 | 第128-135页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第135-136页 |
| 致谢 | 第136-138页 |
| 附件 | 第138页 |
