摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第10-27页 |
1.1 背景 | 第10页 |
1.2 SOFC简介 | 第10-18页 |
1.3 传统NI-YSZ阳极的优化 | 第18-21页 |
1.4 NIO-YSZ阳极还原机理研究现状 | 第21-24页 |
1.5 图像处理方法的应用 | 第24-25页 |
1.6 本课题研究的目的和内容 | 第25-27页 |
2 实验方法 | 第27-39页 |
2.1 实验仪器 | 第27页 |
2.2 实验样品制备 | 第27-30页 |
2.3 金相显微镜 | 第30页 |
2.4 工艺样品还原测试 | 第30-32页 |
2.5 电化学性能测试 | 第32-33页 |
2.6 显微图像分析计算方法 | 第33-39页 |
3 球磨时间对NiO/YSZ阳极微观结构的影响 | 第39-51页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 球磨工艺方案制定 | 第39-40页 |
3.3 金相图片处理与初步计算 | 第40-45页 |
3.4 NI颗粒尺寸分布分析 | 第45-46页 |
3.5 NI-YSZ结合状态和三相界面密度指数计算分析 | 第46-49页 |
3.6 本章小结 | 第49-51页 |
4 NiO-YSZ阳极还原动力学研究 | 第51-66页 |
4.1 引言 | 第51-52页 |
4.2 还原工艺方案制定 | 第52-53页 |
4.3 还原度标定 | 第53-54页 |
4.4 不同还原条件下的曲线绘制 | 第54-56页 |
4.5 还原曲线拟合 | 第56-58页 |
4.6 微观结构分析与计算 | 第58-65页 |
4.7 本章小结 | 第65-66页 |
5 还原工艺对阳极微观结构与性能的影响 | 第66-83页 |
5.1 引言 | 第66-67页 |
5.2 还原工艺方案改进 | 第67-68页 |
5.3 样品还原OCV变化曲线 | 第68-70页 |
5.4 性能测试 | 第70-74页 |
5.5 微观结构分析 | 第74-81页 |
5.6 本章小结 | 第81-83页 |
6 全文总结 | 第83-86页 |
6.1 全文的主要结论 | 第83-84页 |
6.2 论文的创新之处 | 第84-85页 |
6.3 展望 | 第85-86页 |
致谢 | 第86-88页 |
参考文献 | 第88-95页 |
附录1 攻读硕士期间发表和拟发表的论文及申请的专利 | 第95页 |