| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 我国建筑及门窗能耗 | 第10-11页 |
| 1.3 低辐射镀膜玻璃 | 第11-14页 |
| 1.3.1 提出低辐射的意义 | 第11页 |
| 1.3.2 低辐射玻璃的概念 | 第11页 |
| 1.3.3 低辐射玻璃的节能原理 | 第11-12页 |
| 1.3.4 衡量低辐射玻璃的指标 | 第12页 |
| 1.3.5 低辐射玻璃的分类 | 第12-13页 |
| 1.3.6 低辐射玻璃的生产工艺 | 第13-14页 |
| 1.3.7 现状及发展趋势 | 第14页 |
| 1.4 本文的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 实验制备方法及表征技术 | 第16-36页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 直流磁控反应溅射技术镀膜 | 第16-21页 |
| 2.2.1 磁控溅射原理 | 第16-19页 |
| 2.2.2 直流磁控反应溅射 | 第19-20页 |
| 2.2.3 磁控溅射镀膜特点 | 第20-21页 |
| 2.3 磁控溅射制备薄膜的实验材料与设备 | 第21-22页 |
| 2.4 磁控溅射制备薄膜的实验流程 | 第22-26页 |
| 2.4.1 镀膜工艺流程 | 第22-23页 |
| 2.4.2 磁控溅射沉积系统的构成 | 第23-24页 |
| 2.4.3 磁控溅射沉积系统操作步骤 | 第24-26页 |
| 2.5 低辐射镀膜玻璃表征技术 | 第26-32页 |
| 2.5.1 紫外—可见分光光度计(UV—Vis) | 第26页 |
| 2.5.2 粗糙度测试仪(Taylor-Hobson) | 第26-27页 |
| 2.5.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| 2.5.4 X射线衍射仪(XRD) | 第28-29页 |
| 2.5.5 能谱仪(EDS) | 第29页 |
| 2.5.6 傅里叶变换红外光谱仪 | 第29页 |
| 2.5.7 显微硬度计 | 第29-30页 |
| 2.5.8 接触角 | 第30页 |
| 2.5.9 导热系数仪 | 第30-31页 |
| 2.5.10 耐腐蚀性 | 第31-32页 |
| 2.6 低辐射镀膜玻璃制备实验方案 | 第32-34页 |
| 2.7 本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 (Al,Ti)N/Ag,Cu/(Al,Ti)N低辐射镀膜玻璃的制备及性能研究 | 第36-58页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 低辐射镀膜玻璃基层介质层工艺参数的确定 | 第36-41页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 样品测试与分析 | 第37-41页 |
| 3.2.3 结论 | 第41页 |
| 3.3 低辐射镀膜玻璃功能层参数的确定 | 第41-45页 |
| 3.3.1 样品制备 | 第41-42页 |
| 3.3.2 样品测试与分析 | 第42-44页 |
| 3.3.3 结论 | 第44-45页 |
| 3.4 低辐射镀膜玻璃外层介质层参数的确定 | 第45-58页 |
| 3.4.1 样品制备 | 第45-46页 |
| 3.4.2 样品测试与分析 | 第46-56页 |
| 3.4.3 结论 | 第56-58页 |
| 第四章 门窗热工性能及节能效果模拟计算 | 第58-72页 |
| 4.1 门窗热工性能模拟 | 第58-64页 |
| 4.1.1 热工模拟软件介绍 | 第58-61页 |
| 4.1.2 玻璃系统热工模拟 | 第61-63页 |
| 4.1.3 整窗热工模拟 | 第63-64页 |
| 4.2 门窗节能效果模拟 | 第64-71页 |
| 4.2.1 能耗模拟软件介绍 | 第64页 |
| 4.2.2 建筑模型及环境条件 | 第64-66页 |
| 4.2.3 建筑能耗模拟 | 第66-71页 |
| 4.3 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 作者简介 | 第78页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |