| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-34页 |
| 1.1 二维层状过渡金属硫族化合物简介 | 第10-12页 |
| 1.2 二维层状过渡金属硫族化合物的制备 | 第12-14页 |
| 1.3 二维层状过渡金属硫族化合物的表征及测试 | 第14-18页 |
| 1.4 CVD法合成二碲化钼薄膜的国内外研究进展 | 第18-29页 |
| 1.5 二碲化钼薄膜稳定性的国内外研究进展 | 第29-32页 |
| 1.6 选题意义和主要内容 | 第32-34页 |
| 2 少层二碲化钼薄膜的相可控化学气相合成 | 第34-48页 |
| 2.1 引言 | 第34页 |
| 2.2 二碲化钼薄膜的制备 | 第34-37页 |
| 2.3 实验结果分析与讨论 | 第37-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 3 少层二碲化钼薄膜的氧化动力学研究 | 第48-63页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 实验部分 | 第48-50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 4 全文总结 | 第63-64页 |
| 4.1 全文总结 | 第63页 |
| 4.2 创新点 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 攻读学位期间本人公开发表的论文 | 第72页 |