| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 场发射电子枪的发展及现状 | 第12-14页 |
| 1.2.1 场发射阴极的发展及现状 | 第12-13页 |
| 1.2.2 场发射电子枪在X射线管中的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 课题研究意义 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第15-16页 |
| 第二章 电子枪的结构及电子光学理论概述 | 第16-26页 |
| 2.1 电子枪的结构及原理 | 第16-18页 |
| 2.1.1 阴极 | 第16-17页 |
| 2.1.2 聚焦系统 | 第17-18页 |
| 2.1.3 加速系统 | 第18页 |
| 2.2 电子光学理论概述 | 第18-25页 |
| 2.2.1 轴对称系统中近轴区电位分布方程 | 第18-20页 |
| 2.2.2 电子在轴对称静电场中的运动轨迹方程 | 第20-21页 |
| 2.2.3 空间轴对称静电场的形成 | 第21-24页 |
| 2.2.4 有限元法求解静电场分布 | 第24-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 六硼化镧场发射电子枪的结构设计 | 第26-50页 |
| 3.1 OPERA-3D软件工作流程及有限元法简介 | 第26-27页 |
| 3.1.1 软件简介 | 第26页 |
| 3.1.2 软件工作流程 | 第26-27页 |
| 3.2 物理模型的建立 | 第27-28页 |
| 3.3 阴极模拟参数的设定 | 第28-31页 |
| 3.4 栅极的设计 | 第31-38页 |
| 3.4.1 栅网结构对阴极电子发射性能的影响 | 第32-34页 |
| 3.4.2 栅网与阴极间距对阴极电子发射性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.4.3 栅网电位对阴极电子发射性能的影响 | 第35-36页 |
| 3.4.4 栅极形状对阴极发射电子束的影响 | 第36-38页 |
| 3.4.5 小结 | 第38页 |
| 3.5 聚焦极的设计 | 第38-46页 |
| 3.5.1 聚焦极电位对电子束聚焦性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.5.2 聚焦极孔径对电子束聚焦性能的影响 | 第40-42页 |
| 3.5.3 聚焦极形状对电子束聚焦性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.5.4 聚焦极偏心度对电子束聚焦性能的影响 | 第43-46页 |
| 3.5.5 小结 | 第46页 |
| 3.6 阳极的设计 | 第46-47页 |
| 3.6.1 阳极电位对电子束聚焦性的影响 | 第46-47页 |
| 3.6.2 阳极结构的设计 | 第47页 |
| 3.7 总体结构的仿真 | 第47-49页 |
| 3.8 本章小节 | 第49-50页 |
| 第四章 单晶六硼化镧场发射阴极的制备与测试 | 第50-59页 |
| 4.1 单晶LaB6基片的预处理 | 第50-51页 |
| 4.2 单晶LaB6场发射阴极的制备 | 第51-53页 |
| 4.2.1 阴极的线切割加工 | 第51-52页 |
| 4.2.2 阴极的电化学腐蚀处理 | 第52-53页 |
| 4.3 单晶LaB6场发射阴极的场发射性能测试 | 第53-58页 |
| 4.3.1 测试系统的设计与处理 | 第54页 |
| 4.3.2 场发射性能测试结果 | 第54-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 六硼化镧场发射电子枪的组装与测试 | 第59-68页 |
| 5.1 阴极-栅极-聚焦极复合结构的设计 | 第59页 |
| 5.2 阳极结构的设计 | 第59-60页 |
| 5.3 电子枪零件的处理及组装 | 第60-63页 |
| 5.3.1 电子枪零件的处理 | 第60-62页 |
| 5.3.2 电子枪的组装 | 第62-63页 |
| 5.4 电子枪的场发射性能测试 | 第63-65页 |
| 5.4.1 测试系统的设计与处理 | 第63-64页 |
| 5.4.2 场发性能测试结果 | 第64-65页 |
| 5.5 六硼化镧场发射电子枪束斑直径测试 | 第65-67页 |
| 5.5.1 测试系统的设计 | 第65-66页 |
| 5.5.2 束斑测试结果 | 第66-67页 |
| 5.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 研究工作总结 | 第68-69页 |
| 6.2 工作展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第75页 |