摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 文献综述 | 第11-27页 |
1.1 前言 | 第11页 |
1.2 主要NO_x脱除方法 | 第11-15页 |
1.2.1 催化还原法 | 第12-14页 |
1.2.2 吸附法 | 第14页 |
1.2.3 液体吸收法 | 第14页 |
1.2.4 小结 | 第14-15页 |
1.3 NO 催化氧化研究现状 | 第15-20页 |
1.3.1 直接氧化法 | 第15-16页 |
1.3.2 催化氧化法 | 第16-20页 |
1.3.3 小结 | 第20页 |
1.4 NO 氧化反应机理研究现状 | 第20-25页 |
1.4.1 NO 气相氧化反应机理 | 第20-21页 |
1.4.2 NO 催化氧化反应机理 | 第21-25页 |
1.5 本课题研究的目的和内容 | 第25-27页 |
1.5.1 本课题研究目标 | 第25页 |
1.5.2 本课题研究内容 | 第25-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-34页 |
2.1 仪器设备 | 第27-28页 |
2.2 实验材料 | 第28-29页 |
2.3 催化剂制备 | 第29-30页 |
2.3.1 全硅β分子筛的制备 | 第29页 |
2.3.2 SBA-15 分子筛的制备 | 第29页 |
2.3.3 MCM-41 分子筛的制备 | 第29-30页 |
2.3.4 其它催化剂的处理 | 第30页 |
2.4 催化剂活性评价 | 第30-32页 |
2.4.1 活性评价装置 | 第30-31页 |
2.4.2 活性评价内容 | 第31-32页 |
2.5 催化剂表征 | 第32-33页 |
2.5.1 X 射线衍射(XRD) | 第32页 |
2.5.2 比表面积和孔结构测定(BET) | 第32页 |
2.5.3 程序升温脱附(TPD) | 第32-33页 |
2.5.4 原位漫反射红外光谱(In-situ DRIFTS) | 第33页 |
2.6 本章小结 | 第33-34页 |
第三章 高硅分子筛催化氧化 NO 性能比较 | 第34-43页 |
3.1 筛选催化剂的理论依据 | 第34-36页 |
3.2 催化剂XRD 表征 | 第36-37页 |
3.2.1 全硅β分子筛XRD 表征 | 第36页 |
3.2.2 MCM-41 和SBA-15 XRD 表征 | 第36-37页 |
3.3 催化剂催化氧化NO 性能比较 | 第37-39页 |
3.4 全硅β分子筛和 H-ZSM-5 对 NO 氧化的催化活性比较 | 第39-42页 |
3.4.1 催化氧化NO 瞬态变化 | 第39-41页 |
3.4.2 抗水汽性能比较 | 第41-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-43页 |
第四章 全硅β分子筛对 NO 的催化氧化性能 | 第43-50页 |
4.1 反应条件对催化活性的影响 | 第43-48页 |
4.1.1 反应温度对催化剂的影响 | 第43-45页 |
4.1.2 NO 进口浓度对催化剂的影响 | 第45-46页 |
4.1.3 水汽含量对催化剂活性的影响 | 第46-47页 |
4.1.4 空速变化对催化剂活性的影响 | 第47-48页 |
4.2 全硅β分子筛稳定性实验研究 | 第48-49页 |
4.3 本章小结 | 第49-50页 |
第五章 NO 在全硅β分子筛上氧化机理研究 | 第50-66页 |
5.1 全硅β分子筛上 NO 氧化反应过程 | 第50-52页 |
5.1.1 全硅β分子筛共吸附NO+0_2 | 第50-51页 |
5.1.2 全硅β分子筛单独吸附NO | 第51页 |
5.1.3 全硅β分子筛单独吸附N0_2 | 第51-52页 |
5.1.4 小结 | 第52页 |
5.2 TPD 分析 | 第52-55页 |
5.2.1 NO-TPD | 第52-53页 |
5.2.2 N0_2-TPD | 第53-54页 |
5.2.3 NO+0_2-TPD | 第54-55页 |
5.3 In-situ DRIFTS 分析 | 第55-62页 |
5.3.1 全硅β分子筛共吸附NO+0_2红外光谱测试 | 第55-58页 |
5.3.2 全硅β分子筛单独吸附NO 红外光谱测试 | 第58-60页 |
5.3.3 全硅β分子筛单独吸附N0_2红外光谱测试 | 第60-62页 |
5.4 全硅β分子筛上 NO 氧化机理探讨 | 第62-64页 |
5.5 本章小结 | 第64-66页 |
第六章 结论和展望 | 第66-68页 |
6.1 结论 | 第66-67页 |
6.2 展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77页 |