| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 缩略词 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| 1.1 引言 | 第14页 |
| 1.2 铁电薄膜概述 | 第14-18页 |
| 1.2.1 铁电薄膜的分类 | 第14-15页 |
| 1.2.2 铁电薄膜的应用发展 | 第15页 |
| 1.2.3 铁电薄膜的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.3 钛酸钡薄膜概述 | 第18-20页 |
| 1.3.1 钛酸钡的结构 | 第18-19页 |
| 1.3.2 钛酸钡薄膜的发展 | 第19-20页 |
| 1.4 本文的选题及研究目标 | 第20-22页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第22-34页 |
| 2.1 钛酸钡薄膜的制备 | 第22-25页 |
| 2.1.1 实验原理 | 第22-23页 |
| 2.1.2 实验装置 | 第23页 |
| 2.1.3 实验过程 | 第23-25页 |
| 2.2 钛酸钡薄膜的表征 | 第25-34页 |
| 2.2.1 钛酸钡薄膜的厚度 | 第25-26页 |
| 2.2.2 钛酸钡薄膜的表面形貌 | 第26-28页 |
| 2.2.3 X射线衍射分析（XRD） | 第28页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第28-30页 |
| 2.2.5 拉曼（Raman）光谱 | 第30-31页 |
| 2.2.6 铁电性能测试 | 第31-34页 |
| 第三章 PED制备钛酸钡薄膜工艺及其性能表征 | 第34-58页 |
| 3.1 基底温度对钛酸钡薄膜的影响 | 第34-39页 |
| 3.1.1 钛酸钡薄膜的表面形貌 | 第34-36页 |
| 3.1.2 钛酸钡薄膜的X射线衍射（XRD）图谱 | 第36-37页 |
| 3.1.3 钛酸钡薄膜的压电力扫描探针显微镜（PFM）扫描图像 | 第37-39页 |
| 3.1.4 钛酸钡薄膜的电极化强度和电场强度的关系 | 第39页 |
| 3.2 脉冲频率对钛酸钡薄膜的影响 | 第39-43页 |
| 3.2.1 钛酸钡薄膜的表面形貌 | 第40-42页 |
| 3.2.2 钛酸钡薄膜的X射线衍射（XRD）图谱 | 第42页 |
| 3.2.3 钛酸钡薄膜的压电力扫描探针显微镜（PFM）扫描图像 | 第42-43页 |
| 3.3 脉冲数对钛酸钡薄膜的影响 | 第43-55页 |
| 3.3.1 钛酸钡薄膜的厚度 | 第44-45页 |
| 3.3.2 钛酸钡薄膜的表面形貌 | 第45-47页 |
| 3.3.3 钛酸钡薄膜的X射线衍射（XRD）图谱 | 第47-48页 |
| 3.3.4 钛酸钡薄膜的压电力扫描探针显微镜（PFM）扫描图像 | 第48-49页 |
| 3.3.5 钛酸钡薄膜的电滞回线 | 第49-51页 |
| 3.3.6 钛酸钡薄膜的电畴反转 | 第51-55页 |
| 3.4 退火氧分压对钛酸钡薄膜铁电性能的影响 | 第55-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 热处理工艺对钛酸钡薄膜的影响 | 第58-70页 |
| 4.1 热处理工艺 | 第58页 |
| 4.2 热处理工艺对钛酸钡薄膜的影响 | 第58-67页 |
| 4.2.1 钛酸钡薄膜的X射线光电子能谱（XPS） | 第58-59页 |
| 4.2.2 钛酸钡薄膜的表面形貌 | 第59-62页 |
| 4.2.3 钛酸钡薄膜的X射线衍射（XRD）图谱 | 第62页 |
| 4.2.4 钛酸钡薄膜的拉曼光谱 | 第62-64页 |
| 4.2.5 钛酸钡薄膜的压电力显微镜（PFM）扫描图像 | 第64-65页 |
| 4.2.6 钛酸钡薄膜的电滞回线 | 第65-66页 |
| 4.2.7 钛酸钡薄膜的电畴反转 | 第66-67页 |
| 4.3 本章小结 | 第67-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第70页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
