NiO纳米线的制备与光催化性能的研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第1章 概论 | 第7-23页 |
| 1.1 引言 | 第7-8页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第8-12页 |
| 1.2.1 半导体光催化技术的原理 | 第8-9页 |
| 1.2.2 半导体光催化技术的研究进展 | 第9-12页 |
| 1.3 氧化镍纳米材料 | 第12-22页 |
| 1.4 本课题的提出 | 第22-23页 |
| 第2章 实验部分 | 第23-33页 |
| 2.1 实验试剂与仪器设备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验原料与试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 | 第23-24页 |
| 2.2 氧化镍纳米线的制备 | 第24-27页 |
| 2.2.1 镍纳米线的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.2 氧化镍纳米线的制备 | 第26-27页 |
| 2.3 微观结构表征方法 | 第27-30页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜 | 第28-29页 |
| 2.3.3 X射线衍射 | 第29-30页 |
| 2.3.4 能量色散光谱分析 | 第30页 |
| 2.4 光催化性能测试 | 第30-33页 |
| 第3章 纳米线的制备及表征分析 | 第33-42页 |
| 3.1 Ni纳米线的生长机理 | 第33-34页 |
| 3.2 Ni纳米线制备工艺的优化 | 第34-39页 |
| 3.3 纳米线表征与分析 | 第39-42页 |
| 第4章 光催化性能测试与分析 | 第42-49页 |
| 4.1 氧化镍纳米线光催化性能测试与分析 | 第42-45页 |
| 4.2 掺锌氧化镍纳米线光催化性能测试与分析 | 第45-49页 |
| 第5章 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
