| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 阻变效应的研究现状 | 第12-16页 |
| 1.2.1 常见的阻变材料 | 第12-13页 |
| 1.2.2 常见的阻变机制 | 第13-16页 |
| 1.3 TiO_2材料的研究现状 | 第16-19页 |
| 1.3.1 TiO_2材料的简介 | 第16-18页 |
| 1.3.2 TiO_2的阻变效应研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4 研究意义和研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 TiO_2薄膜的制备与表征方法 | 第21-32页 |
| 2.1 TiO_2薄膜的制备 | 第21-23页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积 | 第21-23页 |
| 2.1.2 TiO_2薄膜的工艺流程 | 第23页 |
| 2.2 TiO_2薄膜的微观性能表征 | 第23-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射 | 第23-24页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第24-26页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱 | 第27-28页 |
| 2.2.5 能量分散谱仪 | 第28页 |
| 2.3 TiO_2薄膜的阻变性能测试 | 第28-32页 |
| 2.3.1 测试结构的制备方法 | 第28-29页 |
| 2.3.2 阻变性能的测试 | 第29-30页 |
| 2.3.3 导电机理的分析方法 | 第30-32页 |
| 第三章 沉积工艺对TiO_2薄膜的结构和开关比的作用研究 | 第32-49页 |
| 3.1 沉积温度对TiO_2薄膜的作用 | 第32-36页 |
| 3.1.1 沉积温度对TiO_2薄膜结构的作用 | 第32-35页 |
| 3.1.2 沉积温度对TiO_2薄膜阻变性能的影响 | 第35-36页 |
| 3.2 激光能量对TiO_2薄膜的影响 | 第36-41页 |
| 3.2.1 激光能量对TiO_2薄膜的结构的影响 | 第36-39页 |
| 3.2.2 激光能量对TiO_2薄膜的阻变性能的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 氧分压对TiO_2薄膜的影响 | 第41-44页 |
| 3.3.1 氧分压对TiO_2薄膜的结构的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.2 氧分压对TiO_2薄膜的阻变性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.4 优化沉积工艺TiO_2薄膜的研究 | 第44-47页 |
| 3.4.1 优化工艺TiO_2薄膜的XPS分析 | 第45-46页 |
| 3.4.2 优化工艺的导电机理分析 | 第46-47页 |
| 3.5 小结 | 第47-49页 |
| 第四章 退火气氛对TiO_2薄膜结构及阻变性能的影响 | 第49-61页 |
| 4.1 退火气氛对TiO_2薄膜结构的影响 | 第49-51页 |
| 4.2 退火气氛对TiO_2薄膜开关比的影响 | 第51-53页 |
| 4.3 最优通氧退火工艺TiO_2导电机理分析 | 第53-58页 |
| 4.3.1 阻变效应与电极面积的关系研究 | 第54页 |
| 4.3.2 变温I-V曲线测试研究 | 第54-55页 |
| 4.3.3 最优通氧退火工艺TiO_2 I-V曲线拟合 | 第55-57页 |
| 4.3.4 最优通氧退火工艺TiO_2阻变机制分析 | 第57-58页 |
| 4.4 最优通氧退火工艺TiO_2耐受力研究 | 第58-59页 |
| 4.5 最优通氧退火工艺TiO_2数据保持研究 | 第59-60页 |
| 4.6 小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 研究生期间取得的成果 | 第69-70页 |
