| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-38页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 金属-绝缘体转变的物理机制 | 第13-15页 |
| 1.2.1 能带理论 | 第13-14页 |
| 1.2.2 Mott转变 | 第14页 |
| 1.2.3 Peierls转变 | 第14页 |
| 1.2.4 Anderson转变 | 第14-15页 |
| 1.3 VO_2相变的研究背景 | 第15-27页 |
| 1.3.1 VO_2的晶体结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 VO_2的相变特点 | 第17-19页 |
| 1.3.3 VO_2的应用前景 | 第19-21页 |
| 1.3.4 VO_2的相变机制 | 第21-22页 |
| 1.3.5 调控VO_2薄膜MIT的因素 | 第22-27页 |
| 1.4 THz技术简介 | 第27-31页 |
| 1.4.1 THz技术发展现状 | 第27-28页 |
| 1.4.2 THz-TDS技术介绍 | 第28-31页 |
| 1.5 本论文的研究内容及方法 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-38页 |
| 第2章 VO_2外延薄膜样品制备及表征的关键方法 | 第38-56页 |
| 2.1 VO_2外延薄膜样品制备方法 | 第38-43页 |
| 2.2 VO_2外延薄膜结构表征 | 第43-49页 |
| 2.2.1 XRD的原理 | 第43-44页 |
| 2.2.2 常规X射线衍射技术 | 第44-46页 |
| 2.2.3 同步辐射高分辨X射线衍射技术 | 第46-49页 |
| 2.3 VO_2外延薄膜的电学性能表征 | 第49-51页 |
| 本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 第3章 变温THz-TDS系统的搭建 | 第56-74页 |
| 3.1 THz波发射和探测的方法及原理 | 第56-62页 |
| 3.1.1 THz波发射的方法和原理 | 第56-60页 |
| 3.1.2 THz波探测的方法和原理 | 第60-62页 |
| 3.2 THz时域光谱系统(THz-TDS)的建立 | 第62-68页 |
| 3.2.1 基于LT-GaAs光电导天线的THz-TDS系统的搭建 | 第62-66页 |
| 3.2.2 透射式变温样品台附件的建立 | 第66页 |
| 3.2.3 THz-TDS控制及数据采集LabVIEW程序开发 | 第66-68页 |
| 3.3 VO_2外延薄膜的原位变温THz时域光谱研究 | 第68-70页 |
| 3.3.1 VO_2原位变温THz时域光谱的测量步骤 | 第68-69页 |
| 3.3.2 VO_2薄膜的原位变温THz时域光谱 | 第69-70页 |
| 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 第4章 有机溶剂诱导VO_2/Al_2O_3外延异质结的室温电阻转变 | 第74-88页 |
| 4.1 背景介绍 | 第74-75页 |
| 4.2 样品制备与表征 | 第75-78页 |
| 4.2.1 VO_2/Al_2O_3外延异质结的制备 | 第75-76页 |
| 4.2.2 VO_2/Al_2O_3外延异质结的结构表征 | 第76-78页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第78-84页 |
| 4.3.1 不同有机溶剂对VO_2/Al_2O_3的电阻调控 | 第78-81页 |
| 4.3.2 不同有机溶剂对VO_2薄膜电阻转变的调控机理 | 第81-84页 |
| 本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-88页 |
| 第5章 应变对VO_2薄膜MIT转变的调控研究 | 第88-102页 |
| 5.1 背景介绍 | 第88-89页 |
| 5.2 厚度对VO_2薄膜MIT转变的调控 | 第89-94页 |
| 5.2.1 不同厚度VO_2/Al_2O_3外延薄膜的制备和性能表征 | 第89-91页 |
| 5.2.2 表面生长模式对VO_2应变状态的影响及金属-绝缘体转变的应变调控 | 第91-94页 |
| 5.3 VO_2/Al_2O_3薄膜的原位变温XRD和THz时域光谱研究 | 第94-99页 |
| 5.3.1 VO_2薄膜的原位变温XRD研究 | 第94-96页 |
| 5.3.2 VO_2薄膜的原位变温THz时域光谱研究 | 第96-98页 |
| 5.3.3 VO_2薄膜变温THz透射率的理论模拟 | 第98-99页 |
| 本章小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-102页 |
| 第6章 VO_2/TiO_2薄膜的金属-绝缘体转变研究 | 第102-118页 |
| 6.1 背景介绍 | 第102-103页 |
| 6.2 超厚VO_2/TiO_2薄膜的结构转变研究 | 第103-108页 |
| 6.3 超薄VO_2/TiO_2薄膜的结构与电子相变研究 | 第108-113页 |
| 本章小结 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-118页 |
| 第7章 结论与展望 | 第118-122页 |
| 7.1 结论 | 第118页 |
| 7.2 展望 | 第118-122页 |
| 在读期间发表的文章、专利以及参与项目和获得奖励 | 第122-125页 |
| 致谢 | 第125页 |
