| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 课题背景与意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状和发展态势 | 第10-11页 |
| 1.3 本文的主要贡献和创新 | 第11页 |
| 1.4 本论文的结构安排 | 第11-13页 |
| 第二章 高阻抗表面基本理论 | 第13-23页 |
| 2.1 高阻抗表面基本理论 | 第13-15页 |
| 2.2 高阻抗表面的表面波带隙特性 | 第15-20页 |
| 2.3 高阻抗表面的同相反射特性 | 第20-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 基片集成波导E面阶梯开口天线 | 第23-39页 |
| 3.1 基片集成波导 | 第23-26页 |
| 3.2 基片集成波导天线 | 第26-34页 |
| 3.2.1 基片集成波导开口天线 | 第26-30页 |
| 3.2.2 基片集成波导H面喇叭天线 | 第30-34页 |
| 3.3 基片集成波导E面阶梯开口天线 | 第34-38页 |
| 3.3.1 基片集成波导E面阶梯开口天线理论 | 第34-35页 |
| 3.3.2 仿真结果及分析 | 第35-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 高阻抗表面在天线后瓣抑制中的应用 | 第39-51页 |
| 4.1 基片集成波导开口天线后瓣分析 | 第39-40页 |
| 4.2 基于高阻抗表面的低后瓣SIW开口天线设计 | 第40-43页 |
| 4.3 天线馈电结构设计 | 第43-47页 |
| 4.3.1 同轴探针馈电 | 第43页 |
| 4.3.2 微带馈电 | 第43-45页 |
| 4.3.3 带馈电结构天线仿真结果 | 第45-47页 |
| 4.4 天线加工及测试 | 第47-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 高阻抗表面在阵列互耦抑制中的应用 | 第51-64页 |
| 5.1 互耦的产生和影响 | 第51页 |
| 5.2 阵列天线互耦分析方法 | 第51-54页 |
| 5.2.1 阻抗法 | 第52页 |
| 5.2.2 散射法 | 第52-53页 |
| 5.2.3 有源方向图法 | 第53页 |
| 5.2.4 小阵分析法 | 第53-54页 |
| 5.3 高阻抗表面对阵列天线互耦抑制研究设计 | 第54-63页 |
| 5.3.1 E面阵元间互耦抑制 | 第54-57页 |
| 5.3.2 H面阵元间耦合抑制 | 第57-60页 |
| 5.3.3 天线加工及测试 | 第60-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 高阻抗表面在阵列天线RCS缩减中的应用 | 第64-75页 |
| 6.1 RCS基本概念 | 第64页 |
| 6.2 高阻抗表面缩减天线RCS分析 | 第64-71页 |
| 6.2.1 理想金属平面RCS缩减分析 | 第64-66页 |
| 6.2.2 空间高度对RCS缩减的影响 | 第66-69页 |
| 6.2.3 介质表面的反射 | 第69-70页 |
| 6.2.4 天线模式散射场的RCS缩减 | 第70-71页 |
| 6.3 加载高阻抗表面缩减SIW阵列天线RCS设计 | 第71-74页 |
| 6.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第七章 总结 | 第75-77页 |
| 7.1 全文总结 | 第75-76页 |
| 7.2 后续工作展望 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第81-82页 |