| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 微纳结构制备的技术与方法 | 第9-10页 |
| 1.2.1 激光直写技术 | 第9页 |
| 1.2.2 纳米压印光刻技术 | 第9页 |
| 1.2.3 聚焦离子束加工技术 | 第9页 |
| 1.2.4 蚀刻技术 | 第9-10页 |
| 1.3 利用激光直写技术实现微纳加工的研究现状 | 第10-21页 |
| 1.3.1 飞秒激光双光子聚合微纳制备的进展 | 第10-17页 |
| 1.3.2 连读激光单光子聚合微纳制备的进展 | 第17-21页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第21-24页 |
| 第二章 远场光学超分辨显微成像综合分析系统 | 第24-36页 |
| 2.1 远场光学超分辨显微成像综合分析系统的搭建 | 第24-29页 |
| 2.1.1 光学系统模块 | 第26-28页 |
| 2.1.2 快速扫描平台模块 | 第28-29页 |
| 2.1.3 数据快速采集与处理模块 | 第29页 |
| 2.1.4 控制系统模块 | 第29页 |
| 2.2 光路的快速响应控制 | 第29-30页 |
| 2.3 连续激光空间相位调制技术 | 第30-32页 |
| 2.4 激发光束与消激发光束的同轴耦合 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-36页 |
| 第三章 激光微纳加工制备工艺及原理 | 第36-48页 |
| 3.1 光刻胶 | 第37-38页 |
| 3.2 SU-8负性光刻胶及其光学特性 | 第38-39页 |
| 3.3 实验样品的制备工艺及流程 | 第39-42页 |
| 3.4 数值模拟计算理论 | 第42-45页 |
| 3.5 连续激光直写突破衍射极限限制的纳米孔道的实验原理 | 第45-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 基于连续激光直写研制纳米孔道阵列结构 | 第48-60页 |
| 4.1 基于532nm连续激光制备突破衍射极限限制的纳米孔道阵列结构 | 第48-54页 |
| 4.1.1 曝光功率对纳米孔道特征尺寸的影响 | 第49-50页 |
| 4.1.2 曝光时间对纳米孔道特征尺寸的影响 | 第50-51页 |
| 4.1.3 显影过程对纳米孔道结构的影响 | 第51-52页 |
| 4.1.4 离焦曝光对纳米孔道形貌的影响 | 第52-54页 |
| 4.2 纳米孔道结构及其阵列的表征与分析 | 第54-57页 |
| 4.2.1 纳米孔道结构特征与焦点光强分布之间的关系 | 第54-55页 |
| 4.2.2 聚合阈值与纳米孔道结构之间的关系 | 第55-57页 |
| 4.2.3 大面积一致性可控纳米孔道阵列结构的分析 | 第57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 总结 | 第60页 |
| 5.2 展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第72页 |
