| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第9-15页 |
| 1.1 显示器的发展历史及现状 | 第9-11页 |
| 1.2 场致电子发射平板显示技术 | 第11-14页 |
| 1.3 开题思想及研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 理论基础 | 第15-32页 |
| 2.1 场致电子发射的基本原理 | 第15-17页 |
| 2.2 场致电子发射性能的评价指标与提高方法 | 第17-20页 |
| 2.2.1 场致电子发射性能评价指标 | 第17-19页 |
| 2.2.2 提高场发射性能的几种方法 | 第19-20页 |
| 2.3 场发射阴极材料表面形貌和微观结构的测试与表征方法 | 第20-22页 |
| 2.4 几种常见的碳基薄膜场发射阴极材料 | 第22-25页 |
| 2.5 场发射阴极的制备 | 第25-32页 |
| 2.5.1 制备场发射阴极的常用方法 | 第25-29页 |
| 2.5.2 等离子体增强化学气相沉积的原理及低温生长碳膜的实现 | 第29-32页 |
| 第三章 纳米非晶碳薄膜的制备及其场发射性能测试 | 第32-51页 |
| 3.1 实验装置简介 | 第32-36页 |
| 3.2 纳米非晶碳薄膜的制备 | 第36-38页 |
| 3.2.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2.2 实验 | 第37-38页 |
| 3.3 实验条件优化及结果分析 | 第38-50页 |
| 3.3.1 实验条件优化 | 第38-44页 |
| 3.3.2 实验结果分析 | 第44-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 碳纳米管冷阴极制备及其场发射荧光管研制 | 第51-67页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 碳纳米管薄膜的制备及结果分析 | 第51-55页 |
| 4.2.1 碳纳米管薄膜的制备 | 第52页 |
| 4.2.2 实验结果及分析 | 第52-55页 |
| 4.3 碳纳米管冷阴极场发射荧光管 | 第55-66页 |
| 4.3.1 荧光管的结构及评价参数 | 第56-59页 |
| 4.3.2 碳纳米管三极型荧光管工作原理 | 第59-60页 |
| 4.3.3 荧光管器件的封装 | 第60-62页 |
| 4.3.4 荧光管器件的性能测试 | 第62-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 附录1：致谢 | 第75-76页 |
| 附录2：硕士期间发表论文 | 第76页 |