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ZnO薄膜的制备及磁热电特性研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
1 绪论第10-25页
    1.1 课题背景和研究意义第10页
    1.2 热电效应基础理论第10-13页
        1.2.1 塞贝克(Seebeck)效应第11页
        1.2.2 珀尔贴(Peltier)效应第11-12页
        1.2.3 汤姆逊(Thomson)效应第12页
        1.2.4 材料的热电性能参数第12-13页
    1.3 热电材料的分类及研究进展第13-16页
        1.3.1 常规的合金热电材料第13-14页
        1.3.2 新型热电材料第14-16页
    1.4 ZnO 基热电材料第16-21页
        1.4.1 ZnO 简介第16-18页
        1.4.2 ZnO 结构特性第18页
        1.4.3 ZnO 基热电材料的研究现状第18-21页
    1.5 热电材料的常用制备方法第21-23页
        1.5.1 热电块体材料的制备方法第21-22页
        1.5.2 热电薄膜的制备方法第22-23页
    1.6 本论文的研究意义与研究内容第23-25页
        1.6.1 本论文研究意义第23-24页
        1.6.2 本论文的研究内容第24-25页
2 ZnO 基薄膜的制备与表征技术第25-32页
    2.1 射频磁控溅射法原理第25-26页
    2.2 试样的制备第26-28页
        2.2.1 实验原料第26页
        2.2.2 实验设备第26页
        2.2.3 实验前期准备第26-27页
        2.2.4 薄膜的沉积过程第27-28页
    2.3 薄膜性能表征技术第28-32页
        2.3.1 薄膜晶体结构物相结构表征(XRD)第28-29页
        2.3.2 薄膜表面形貌测试第29-30页
        2.3.3 光电子能谱检测(XPS)第30页
        2.3.4 薄膜厚度及 Hall 测试第30页
        2.3.5 薄膜光致发光谱测试(PL)第30-31页
        2.3.6 热电特性测试第31-32页
3 ZnO:Ga 薄膜的电学性能及磁热电特性研究第32-41页
    3.1 ZnO:Ga 薄膜的结构及形貌第32-35页
        3.1.1 ZnO:Ga 薄膜的结构第32-34页
        3.1.2 ZnO:Ga 薄膜的形貌第34-35页
    3.2 ZnO:Ga 薄膜的电学性能第35-36页
    3.3 ZnO:Ga 薄膜的磁热电特性第36-40页
        3.3.1 Seebeck 系数(S)及功率因子(PF)第36-37页
        3.3.2 磁热电特性第37-40页
    3.4 本章小结第40-41页
4 ZnO:Al 薄膜电学性能与磁热电特性研究第41-49页
    4.1 ZnO:Al 薄膜的结构与形貌第41-45页
        4.1.1 ZnO: Al 薄膜的结构第41-44页
        4.1.2 ZnO: Al 薄膜的形貌第44-45页
    4.2 ZnO:Al 薄膜的电学性能第45-46页
    4.3 ZnO:Al 薄膜的磁热电特性第46-47页
    4.4 本章小结第47-49页
5 ZnO: Ga 与 ZnO: Al 薄膜的磁热电特能对比第49-58页
    5.1 结构与形貌第49-53页
        5.1.1 GZO 和 AZO 薄膜的结构第49-50页
        5.1.2 GZO 和 AZO 薄膜的形貌第50页
        5.1.3 GZO 和 AZO 薄膜的成分测试(XPS)第50-53页
    5.2 GZO 和 AZO 薄膜的电学性能及热电特性第53-54页
    5.3 GZO 和 AZO 薄膜的磁热电特性第54-57页
    5.4 本章小结第57-58页
6 总结与展望第58-60页
    6.1 主要结论与创新点第58-59页
    6.2 后续工作及展望第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-70页
附录第70页
    A. 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录第70页
    B. 攻读硕士学位期间参加的科研项目第70页

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