| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 课题背景和研究意义 | 第10页 |
| 1.2 热电效应基础理论 | 第10-13页 |
| 1.2.1 塞贝克（Seebeck）效应 | 第11页 |
| 1.2.2 珀尔贴(Peltier)效应 | 第11-12页 |
| 1.2.3 汤姆逊（Thomson)效应 | 第12页 |
| 1.2.4 材料的热电性能参数 | 第12-13页 |
| 1.3 热电材料的分类及研究进展 | 第13-16页 |
| 1.3.1 常规的合金热电材料 | 第13-14页 |
| 1.3.2 新型热电材料 | 第14-16页 |
| 1.4 ZnO 基热电材料 | 第16-21页 |
| 1.4.1 ZnO 简介 | 第16-18页 |
| 1.4.2 ZnO 结构特性 | 第18页 |
| 1.4.3 ZnO 基热电材料的研究现状 | 第18-21页 |
| 1.5 热电材料的常用制备方法 | 第21-23页 |
| 1.5.1 热电块体材料的制备方法 | 第21-22页 |
| 1.5.2 热电薄膜的制备方法 | 第22-23页 |
| 1.6 本论文的研究意义与研究内容 | 第23-25页 |
| 1.6.1 本论文研究意义 | 第23-24页 |
| 1.6.2 本论文的研究内容 | 第24-25页 |
| 2 ZnO 基薄膜的制备与表征技术 | 第25-32页 |
| 2.1 射频磁控溅射法原理 | 第25-26页 |
| 2.2 试样的制备 | 第26-28页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第26页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第26页 |
| 2.2.3 实验前期准备 | 第26-27页 |
| 2.2.4 薄膜的沉积过程 | 第27-28页 |
| 2.3 薄膜性能表征技术 | 第28-32页 |
| 2.3.1 薄膜晶体结构物相结构表征（XRD） | 第28-29页 |
| 2.3.2 薄膜表面形貌测试 | 第29-30页 |
| 2.3.3 光电子能谱检测（XPS） | 第30页 |
| 2.3.4 薄膜厚度及 Hall 测试 | 第30页 |
| 2.3.5 薄膜光致发光谱测试(PL) | 第30-31页 |
| 2.3.6 热电特性测试 | 第31-32页 |
| 3 ZnO:Ga 薄膜的电学性能及磁热电特性研究 | 第32-41页 |
| 3.1 ZnO:Ga 薄膜的结构及形貌 | 第32-35页 |
| 3.1.1 ZnO:Ga 薄膜的结构 | 第32-34页 |
| 3.1.2 ZnO:Ga 薄膜的形貌 | 第34-35页 |
| 3.2 ZnO:Ga 薄膜的电学性能 | 第35-36页 |
| 3.3 ZnO:Ga 薄膜的磁热电特性 | 第36-40页 |
| 3.3.1 Seebeck 系数(S)及功率因子(PF) | 第36-37页 |
| 3.3.2 磁热电特性 | 第37-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 ZnO:Al 薄膜电学性能与磁热电特性研究 | 第41-49页 |
| 4.1 ZnO:Al 薄膜的结构与形貌 | 第41-45页 |
| 4.1.1 ZnO: Al 薄膜的结构 | 第41-44页 |
| 4.1.2 ZnO: Al 薄膜的形貌 | 第44-45页 |
| 4.2 ZnO:Al 薄膜的电学性能 | 第45-46页 |
| 4.3 ZnO:Al 薄膜的磁热电特性 | 第46-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 5 ZnO: Ga 与 ZnO: Al 薄膜的磁热电特能对比 | 第49-58页 |
| 5.1 结构与形貌 | 第49-53页 |
| 5.1.1 GZO 和 AZO 薄膜的结构 | 第49-50页 |
| 5.1.2 GZO 和 AZO 薄膜的形貌 | 第50页 |
| 5.1.3 GZO 和 AZO 薄膜的成分测试（XPS） | 第50-53页 |
| 5.2 GZO 和 AZO 薄膜的电学性能及热电特性 | 第53-54页 |
| 5.3 GZO 和 AZO 薄膜的磁热电特性 | 第54-57页 |
| 5.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 6 总结与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 主要结论与创新点 | 第58-59页 |
| 6.2 后续工作及展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-70页 |
| 附录 | 第70页 |
| A. 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第70页 |
| B. 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第70页 |
