摘要 | 第3-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-24页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 孔光整技术综述 | 第12-18页 |
1.3 液体磁性磨具的提出背景 | 第18-20页 |
1.3.1 磁流变液体 | 第18-19页 |
1.3.2 磁性液体 | 第19页 |
1.3.3 磁流变抛光技术 | 第19-20页 |
1.4 液体磁性磨具光整加工技术概述 | 第20页 |
1.5 课题的研究背景、来源及意义 | 第20-21页 |
1.6 本课题主要研究内容及创新点 | 第21-24页 |
第二章 液体磁性磨具的制备及性能指标 | 第24-38页 |
2.1 引言 | 第24页 |
2.2 液体磁性磨具的性能要求 | 第24-25页 |
2.3 液体磁性磨具的制备 | 第25-30页 |
2.3.1 液体磁性磨具的组成 | 第25页 |
2.3.2 基液的选择 | 第25-26页 |
2.3.3 磁性粒子的选择 | 第26-27页 |
2.3.4 磨料颗粒的选择 | 第27-28页 |
2.3.5 表面活性剂的选择 | 第28-29页 |
2.3.6 纳米粒子 | 第29-30页 |
2.3.7 液体磁性磨具的制备工艺 | 第30页 |
2.4 液体磁性磨具的主要物理性能指标 | 第30-36页 |
2.4.1 液体磁性磨具的流变性 | 第30-32页 |
2.4.2 液体磁性磨具的粘度 | 第32-33页 |
2.4.3 液体磁性磨具的稳定性 | 第33-35页 |
2.4.4 液体磁性磨具的饱和磁化强度 | 第35页 |
2.4.5 液体磁性磨具的饱和剪切屈服应力 | 第35-36页 |
2.5 本章小结 | 第36-38页 |
第三章 液体磁性磨具稳定性实验研究 | 第38-50页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 液体磁性磨具稳定性机理研究 | 第38-40页 |
3.2.1 沉降稳定机理 | 第38-39页 |
3.2.2 分散稳定机理 | 第39-40页 |
3.3 液体磁性磨具稳定性实验分析 | 第40-48页 |
3.3.1 聚丙烯酸对液体磁性磨具稳定性影响实验 | 第40-44页 |
3.3.2 纳米二氧化硅对稳定性影响实验 | 第44-47页 |
3.3.3 PH值对稳定性的影响 | 第47-48页 |
3.4 本章小结 | 第48-50页 |
第四章 液体磁性磨具小孔加工机理研究 | 第50-58页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 液体磁性磨具小孔光整加工机理 | 第50-56页 |
4.2.1 液体磁性磨具的微观结构 | 第50页 |
4.2.2 小孔光整机理的微观分析 | 第50-52页 |
4.2.3 液体磁性磨具在孔内的剪切应力分布以及速度分布 | 第52-54页 |
4.2.4 单个磨粒材料去除模型的建立 | 第54-56页 |
4.2.5 影响加工效率和表面粗糙度的主要因素分析 | 第56页 |
4.3 本章小结 | 第56-58页 |
第五章 液体磁性磨具小孔光整加工实验研究 | 第58-76页 |
5.1 引言 | 第58页 |
5.2 液体磁性磨具实验装置 | 第58-63页 |
5.2.1 实验装置的设计思想 | 第58页 |
5.2.2 两种小孔光整加工挤压装置的设计简介 | 第58-63页 |
5.3 磁场发生装置 | 第63-65页 |
5.4 实验设计 | 第65-68页 |
5.4.1 实验平台 | 第65页 |
5.4.2 试件与磨具准备 | 第65-67页 |
5.4.3 实验方案及工艺流程 | 第67-68页 |
5.5 实验结果及分析 | 第68-75页 |
5.5.1 加工时间及试件材质对材料去除率和表面粗糙度的影响 | 第68-69页 |
5.5.2 磨料粒径对材料去除率和表面粗糙度的影响 | 第69-70页 |
5.5.3 入口压力对光整加工的影响 | 第70-71页 |
5.5.4 电流强度对材料去除率和表面粗糙度的影响 | 第71-72页 |
5.5.5 三因素四水平正交试验及分析 | 第72-73页 |
5.5.6 内孔表面形貌分析 | 第73-75页 |
5.6 本章小结 | 第75-76页 |
第六章 总结与展望 | 第76-80页 |
6.1 本文主要研究工作 | 第76-77页 |
6.2 未来研究工作展望 | 第77-80页 |
参考文献 | 第80-84页 |
致谢 | 第84-86页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第86-88页 |
攻读学位期间专利申请 | 第88页 |