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基于液体磁性磨具的小孔光整加工实验研究

摘要第3-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第12-24页
    1.1 引言第12页
    1.2 孔光整技术综述第12-18页
    1.3 液体磁性磨具的提出背景第18-20页
        1.3.1 磁流变液体第18-19页
        1.3.2 磁性液体第19页
        1.3.3 磁流变抛光技术第19-20页
    1.4 液体磁性磨具光整加工技术概述第20页
    1.5 课题的研究背景、来源及意义第20-21页
    1.6 本课题主要研究内容及创新点第21-24页
第二章 液体磁性磨具的制备及性能指标第24-38页
    2.1 引言第24页
    2.2 液体磁性磨具的性能要求第24-25页
    2.3 液体磁性磨具的制备第25-30页
        2.3.1 液体磁性磨具的组成第25页
        2.3.2 基液的选择第25-26页
        2.3.3 磁性粒子的选择第26-27页
        2.3.4 磨料颗粒的选择第27-28页
        2.3.5 表面活性剂的选择第28-29页
        2.3.6 纳米粒子第29-30页
        2.3.7 液体磁性磨具的制备工艺第30页
    2.4 液体磁性磨具的主要物理性能指标第30-36页
        2.4.1 液体磁性磨具的流变性第30-32页
        2.4.2 液体磁性磨具的粘度第32-33页
        2.4.3 液体磁性磨具的稳定性第33-35页
        2.4.4 液体磁性磨具的饱和磁化强度第35页
        2.4.5 液体磁性磨具的饱和剪切屈服应力第35-36页
    2.5 本章小结第36-38页
第三章 液体磁性磨具稳定性实验研究第38-50页
    3.1 引言第38页
    3.2 液体磁性磨具稳定性机理研究第38-40页
        3.2.1 沉降稳定机理第38-39页
        3.2.2 分散稳定机理第39-40页
    3.3 液体磁性磨具稳定性实验分析第40-48页
        3.3.1 聚丙烯酸对液体磁性磨具稳定性影响实验第40-44页
        3.3.2 纳米二氧化硅对稳定性影响实验第44-47页
        3.3.3 PH值对稳定性的影响第47-48页
    3.4 本章小结第48-50页
第四章 液体磁性磨具小孔加工机理研究第50-58页
    4.1 引言第50页
    4.2 液体磁性磨具小孔光整加工机理第50-56页
        4.2.1 液体磁性磨具的微观结构第50页
        4.2.2 小孔光整机理的微观分析第50-52页
        4.2.3 液体磁性磨具在孔内的剪切应力分布以及速度分布第52-54页
        4.2.4 单个磨粒材料去除模型的建立第54-56页
        4.2.5 影响加工效率和表面粗糙度的主要因素分析第56页
    4.3 本章小结第56-58页
第五章 液体磁性磨具小孔光整加工实验研究第58-76页
    5.1 引言第58页
    5.2 液体磁性磨具实验装置第58-63页
        5.2.1 实验装置的设计思想第58页
        5.2.2 两种小孔光整加工挤压装置的设计简介第58-63页
    5.3 磁场发生装置第63-65页
    5.4 实验设计第65-68页
        5.4.1 实验平台第65页
        5.4.2 试件与磨具准备第65-67页
        5.4.3 实验方案及工艺流程第67-68页
    5.5 实验结果及分析第68-75页
        5.5.1 加工时间及试件材质对材料去除率和表面粗糙度的影响第68-69页
        5.5.2 磨料粒径对材料去除率和表面粗糙度的影响第69-70页
        5.5.3 入口压力对光整加工的影响第70-71页
        5.5.4 电流强度对材料去除率和表面粗糙度的影响第71-72页
        5.5.5 三因素四水平正交试验及分析第72-73页
        5.5.6 内孔表面形貌分析第73-75页
    5.6 本章小结第75-76页
第六章 总结与展望第76-80页
    6.1 本文主要研究工作第76-77页
    6.2 未来研究工作展望第77-80页
参考文献第80-84页
致谢第84-86页
攻读学位期间发表的学术论文第86-88页
攻读学位期间专利申请第88页

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