| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| 1.1 透明激光陶瓷的概述 | 第8-13页 |
| 1.1.1 透明陶瓷的概念 | 第8页 |
| 1.1.2 透明陶瓷的发展历程 | 第8-9页 |
| 1.1.3 透明陶瓷的分类 | 第9-10页 |
| 1.1.4 影响透过率的因素 | 第10-12页 |
| 1.1.5 陶瓷制备工艺简介 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3 稀土离子特点 | 第15-18页 |
| 1.3.1 稀土元素简介 | 第15-16页 |
| 1.3.2 稀土离子的辐射跃迁 | 第16-17页 |
| 1.3.3 Yb~(~(3+))—Tm~(~(3+))的特点 | 第17-18页 |
| 1.4 氧化镥钆基质的简介 | 第18-19页 |
| 1.4.1 氧化钆的特点 | 第19页 |
| 1.4.2 掺Lu~(~(3+))的目的 | 第19页 |
| 1.5 课题的研究意义及主要内容 | 第19-21页 |
| 1.5.1 课题的研究意义 | 第19页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷粉体的制备 | 第21-42页 |
| 2.1 柠檬酸凝胶燃烧法制备Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷粉体 | 第21-25页 |
| 2.1.1 实验试剂及仪器 | 第21-23页 |
| 2.1.2 Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷粉体的制备 | 第23-25页 |
| 2.2 制备Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷粉体的最佳工艺条件 | 第25-35页 |
| 2.2.1 样品的选取 | 第25-26页 |
| 2.2.2 Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷粉体的测试 | 第26页 |
| 2.2.3 粉体煅烧温度的选取 | 第26-29页 |
| 2.2.4 溶液pH值的选取 | 第29-31页 |
| 2.2.5 Lu~(~(3+))掺杂摩尔分数的选取 | 第31-35页 |
| 2.3 Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷粉体的测试结果及分析 | 第35-40页 |
| 2.3.1 样品的上转换光谱分析 | 第35-39页 |
| 2.3.2 样品的红外光谱分析 | 第39-40页 |
| 2.3.3 样品的能谱分析 | 第40页 |
| 本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 Tm,Yb:(GdLu)_2O_3陶瓷的制备 | 第42-57页 |
| 3.1 陶瓷成型和烧结方法的简介 | 第42-44页 |
| 3.1.1 陶瓷成型 | 第42-43页 |
| 3.1.2 陶瓷烧结 | 第43-44页 |
| 3.2 陶瓷的制备过程 | 第44-47页 |
| 3.2.1 实验试剂和实验仪器 | 第44-45页 |
| 3.2.2 陶瓷烧结流程 | 第45页 |
| 3.2.3 陶瓷制备的具体操作过程 | 第45-47页 |
| 3.3 陶瓷的最佳工艺条件的选取 | 第47-54页 |
| 3.3.1 添加正硅酸乙酯对陶瓷样品的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.2 烧结温度对陶瓷样品的影响 | 第48-51页 |
| 3.3.3 恒温时间对陶瓷样品的影响 | 第51-53页 |
| 3.3.4 抛光对陶瓷样品的影响 | 第53-54页 |
| 3.4 陶瓷样品的测试结果及分析 | 第54-56页 |
| 3.4.1 陶瓷样品的透过率 | 第54-55页 |
| 3.4.2 陶瓷样品的吸收光谱 | 第55-56页 |
| 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 附录 | 第63页 |
