| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 石墨烯的简史 | 第9页 |
| 1.2 石墨烯的主要性质 | 第9-15页 |
| 1.2.1 电子传输特性 | 第9-11页 |
| 1.2.2 量子霍尔效应 | 第11-13页 |
| 1.2.3 光学性质 | 第13-14页 |
| 1.2.4 机械特性 | 第14-15页 |
| 1.2.5 热性能 | 第15页 |
| 1.3 CVD法制备石墨烯的研究历史 | 第15-16页 |
| 1.4 石墨烯的表面功能化 | 第16-18页 |
| 第二章 石墨烯的主要合成方法 | 第18-22页 |
| 2.1 机械剥离法 | 第18-19页 |
| 2.2 氧化还原法 | 第19-20页 |
| 2.3 碳化硅外延生长法 | 第20页 |
| 2.4 化学气象沉积法 | 第20-22页 |
| 第三章 石墨烯的主要表征手段 | 第22-28页 |
| 3.1 拉曼光谱仪 | 第22-25页 |
| 3.1.1 拉曼光谱仪的原理介绍 | 第22-23页 |
| 3.1.2 拉曼光谱仪对石墨烯的表征 | 第23-25页 |
| 3.2 扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| 3.3 其他表征手段 | 第26-28页 |
| 第四章 石墨烯材料的CVD法制备实验 | 第28-36页 |
| 4.1 实验材料和设备 | 第28-29页 |
| 4.2 实验过程 | 第29-30页 |
| 4.2.1 Cu衬底的预处理过程 | 第29-30页 |
| 4.2.2 工艺流程 | 第30页 |
| 4.3 数据分析 | 第30-34页 |
| 4.4 结论 | 第34-36页 |
| 第五章 ALD沉积ZnO对石墨烯基气敏传感性的研究 | 第36-49页 |
| 5.1 原子层沉积(ALD)介绍 | 第36页 |
| 5.2 石墨烯的转移 | 第36-40页 |
| 5.2.1 试剂和设备 | 第36-37页 |
| 5.2.2 石墨烯的转移工艺 | 第37-38页 |
| 5.2.3 结果表征与分析 | 第38-40页 |
| 5.3 沉积ZnO石墨烯基对甲醛气体的气敏测试 | 第40-49页 |
| 5.3.1 材料和设各 | 第40页 |
| 5.3.2 ZnO层的沉积和表征 | 第40-45页 |
| 5.3.3 测试过程 | 第45-47页 |
| 5.3.4 数据分析 | 第47-48页 |
| 5.3.5 实验结论 | 第48-49页 |
| 第六章 总结和展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 附录 | 第56页 |