| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 热障涂层的研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 热障涂层结构和材料系统 | 第14-16页 |
| 1.3 热障涂层制备的2种主要方法 | 第16-18页 |
| 1.3.1 等离子喷涂法(PS法) | 第17-18页 |
| 1.3.2 电子束物理气相沉积法(EB-PVD方法) | 第18页 |
| 1.4 热障涂层的研究趋势 | 第18-20页 |
| 1.5 本论文的研究目的、意义和研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第20页 |
| 1.5.2 研究意义 | 第20-22页 |
| 第2章 实验原理与研究方法 | 第22-32页 |
| 2.1 电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术 | 第22-25页 |
| 2.1.1 EB-PVD发展历史与现状 | 第22页 |
| 2.1.2 EB-PVD技术特点 | 第22-23页 |
| 2.1.3 EB-PVD技术工艺参数选择 | 第23-25页 |
| 2.2 样品微观结构表征方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 表面形貌检测 | 第25-26页 |
| 2.2.2 化学成分分析 | 第26页 |
| 2.2.3 涂层厚度的测量 | 第26页 |
| 2.2.4 物相分析 | 第26-28页 |
| 2.3 热障涂层热循环实验 | 第28-30页 |
| 2.3.1 热循环实验的原理 | 第28页 |
| 2.3.2 陶瓷材料的热循环氧化实验 | 第28-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 实验流程 | 第32-40页 |
| 3.1 实验技术路线 | 第32-36页 |
| 3.1.1 实验过程设计 | 第32-33页 |
| 3.1.2 实验工艺流程 | 第33-36页 |
| 3.2 实验材料 | 第36-37页 |
| 3.3 制备热障涂层 | 第37-39页 |
| 3.3.1 电子束蒸发设备 | 第37-38页 |
| 3.3.2 涂层的制备工艺 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 工艺参数对热障涂层的影响 | 第40-50页 |
| 4.1 制备YSZ热障涂层的工艺过程 | 第40页 |
| 4.2 束流对热障涂层表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.3 束流对热障涂层沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| 4.4 束流对热障涂层物相的影响 | 第42-44页 |
| 4.5 基片温度对热障涂层微观形貌的影响 | 第44-46页 |
| 4.6 基片温度对热障涂层物相的影响 | 第46-47页 |
| 4.7 蒸汽入射角对热障涂层形貌的影响 | 第47-49页 |
| 4.8 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 热障涂层的热震性能研究 | 第50-74页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 实验材料及方法 | 第50-51页 |
| 5.3 实验结果与分析 | 第51-61页 |
| 5.3.1 氧化锆涂层的退火处理 | 第51-54页 |
| 5.3.2 热障涂层的热循环失效 | 第54-55页 |
| 5.3.3 高温氧化动力学分析 | 第55-61页 |
| 5.4 涂层的抗氧化性能研究 | 第61-68页 |
| 5.4.1 300MA涂层与350MA涂层的抗氧化性能对比 | 第61-64页 |
| 5.4.2 400MA涂层与350MA涂层的抗氧化性能对比 | 第64-66页 |
| 5.4.3 300MA涂层与400MA涂层的抗氧化性能对比 | 第66-68页 |
| 5.5 涂层的失效机理分析 | 第68-72页 |
| 5.6 本章小结 | 第72-74页 |
| 第6章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 6.1 结论 | 第74-75页 |
| 6.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
